二手 ADTEC Adex-3000S #9363513 待售

ADTEC Adex-3000S Exposure Equipment是一種先進的晶圓級無掩碼工作流工具,具有最先進的功能。Adex-3000S提供了高達15微米的擴展分辨率、陣列性能和分辨率範圍,以支持各種不同的半導體/MEMS設計。該系統配備了三個石英燈凹面鏡，其多燈陣列設計確保了基板尺寸可達8英寸的均勻照明水平。它還支持接觸各種類型的光刻膠薄膜、正負感光材料。ADTEC Adex-3000S還具有先進的實時調制控制單元,可實現高精度、精細的陣列,分辨率降至1.3 nm,與附近的曝光點形成鮮明對比。這種精細的精確度使光刻設計參數在特征級別更緊密,線性度更高。這臺實時調整機還通過優化的聚焦輸入實現高速和高分辨率的多模式曝光，從而實現更高的吞吐量。這種曝光工具采用了一種新穎的設計方法，利用高通量的空氣/氣體對流板來平整曝光場。這允許在表面高度均勻的暴露。此外,Adex-3000S還使用一種自校準設備,可以檢測和補償激光功率波動,以消除曝光期間的掩蔽誤差和失真。ADTEC Adex-3000S Exposure Model由於具有等離子波光刻功能而提供了快速可靠的成像功能。此功能可實現極高速曝光,並大大減少圖像失真。還可以通過先進的激光能量脈沖控制設備來調整和塑造激光能量輸出，從而提高分辨率。Adex-3000S支持批量生產和高級設計的快速原型設計,而無需專用的遮罩塊。這大大降低了生產成本,因為不再需要專用口罩,從而降低了批量生產的成本。此外,這還支持快速周轉原型和驗證項目。該系統消除了常規面膜生產和晶圓加工中遇到的瓶頸。ADTEC Adex-3000S Exposure Unit提供獨特的功能組合,可實現更快的質量設計和更大的靈活性。憑借其多燈陣列、等離子波光刻、自校準機，為用戶提供了優於傳統掩模圖案的性能和精度水平。