二手 AXCELIS / FUSION 200 PCU #9123076 待售

AXCELIS/FUSION 200 PCU是為光刻和半導體制造而設計的高精度曝光設備。它提供了更高的準確性和吞吐量速率,並提高了可靠性和性能。該系統提供200 W的最大源功率，具有廣泛的波長範圍，包括EUV、F2、KrF、ArF和i-line源。該單元由精密光刻模塊（PPML）與光束掃描機（BSS）耦合而成。PMML由X射線源、掩模對齊器、照明組件和數據采集工具組成。X射線源（X-Ray Source）是一種熱電子型放電原子源，它傳遞高能電子來加熱目標。這個目標將X射線輻射轉換為紫外線、可見或紅外輻射。掩模對齊器允許在X射線光束中精確定位掩模。其機動化的五軸級提供了在五個自由度內調整掩模位置的靈活性。Illumination Assembly包含光學元件，包括透鏡、鏡子和濾鏡，它們塑造光束圖案，減少熱失真和控制能量分布。數據采集資產直接從圖像傳感器收集和存儲曝光數據。光束掃描模型（BSS）每次運行同時處理200個晶圓，提供廣泛的曝光定制。例如，用戶可以定制激光脈沖持續時間、掃描形狀和速度，以及高精度劑量。BSS還提供了可選的基於真空的預掃描儀（VPS）,用於晶圓預對準和改進測量吞吐量。VPS與激光模式識別算法集成在一起，該算法在曝光前識別晶片上的基準標記，並自動校正任何偏離規格的情況。FUSION 200 PCU結合了先進的精密對準和卓越的掃描精度,提高了光刻性能.該設備使快速、準確和可靠的復雜和精細布局曝光成為可能,使其成為關鍵光刻應用的理想工具。