二手 AXCELIS / FUSION 200 PCU #9231979 待售

AXCELIS/FUSION 200 PCU（光子準直均勻性）是提供高精度光刻能力的先進曝光設備。FUSION 200 PCU具有高度可定制和自動化的功能以及用戶友好的軟件,可實現各種半導體和光掩模材料的快速、高效、準確的對準、曝光和處理。該系統采用兩級陣列和對齊單元,具有均勻的遮罩和無像差的照明功能。第一階段是投影對齊器，利用影像對齊工具（IAT）和精確對齊工具（PAT）的組合，在x和y維度上實現光掩模與5納米以內的精確對齊。第二階段是曝光工具，它使用應用對齊均勻投影（Application Allied Uniform Projection，AUP）來統一曝光光掩模材料。AXCELIS 200PCU還使用了獲得專利的AQUA（高級準相移掩模）技術，以確保在工藝臨界光刻步驟中均勻的強度水平。這有助於保證任何光掩模材料上的全尺寸、高產量、穩定過程的光刻膠覆蓋。AXCELIS 200 PCU具有四種高級對準和曝光模式，允許用戶適應專門的光掩模材料和光刻工藝。其中包括：啟用自動電子束寫入的E-RASTER模式、標準模式和靜態模式。此外,這臺機器還具有「快速模式」,它是為最大吞吐量而設計的,並且比0.5到12.5um的光掩模的行業標準周期時間更快。在成像和光學控制方面,200 PCU使用了一個光學封裝,它利用了有源的數字遠程中心光源,可為用戶提供更大的靈活性、穩定性和準確性。此工具還配備了能夠定位最困難的掩蔽模式的高分辨率模式識別資產。此外,FUSION 200PCU可用於垂直和水平配置。最後,200PCU提供了三種高級曝光後處理功能,以確保準確、可靠的處理結果。這些包括：基板清潔、裝卸和修邊。所有這些功能都是完全自動化的，可以同時使用，這意味著光掩碼可以快速處理，很少有操作員幹預。AXCELIS/FUSION 200PCU是一種先進的曝光模型,它為半導體和光掩模的制造提供了高度的精度、準確性和靈活性。憑借其強大的功能,用戶可以實現快速的周期時間、高度精確的對齊和曝光,以及精確的後期處理以獲得高質量的結果。