二手 AXCELIS / FUSION 200 PCU #9258173 待售

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ID: 9258173
晶圓大小: 6"
Photo stabilizer, 6".
AXCELIS/FUSION 200 PCU(Photomask Creation Unit)是為半導體工業設計的先進高精度光刻設備。它用於將半導體晶片以極高的精度和重復性暴露在紫外線(UV)光下,從而滿足了對高質量、高產量、大容量器件制造的要求。FUSION 200 PCU配備了具有亞微米精度(DDSSA)的高精度直驅步進器,能夠對暴露的半導體晶片進行極其精確的處理。步進器包括一個高精度、高分辨率的光學對準子系統,以確保在晶片上準確放置曝光掩模。該系統還包括一個衰減光路長度(AOPL)函數,允許獨立暴露晶圓的不同區域。AXCELIS 200PCU還包括一個高級註冊單元,該單元可確保每個暴露的芯片相對於其他芯片處於正確的位置,以及一個可進一步提高曝光精度的雙邊曝光穿孔和掛接機。這樣可以確保整個圖像的曝光強度均勻,這是高精度光刻所必需的。為確保與各種類型的曝光罩兼容,該工具配備了一系列濾光片,以支持各種感光和摻雜的半導體晶片層的曝光度。對於非常小特征的光刻,資產還包括另一種曝光技術,即掃描隧道光刻(STL)模型,在該模型中,曝光是使用帶有一系列發射器的局部掃描探針進行的。200 PCU采用了多種安全功能,以最大程度地減少意外暴露於輻射中。其中包括光學安全簾、嚴密監控的互鎖設備以及自動設置的模擬曝光計時器。該系統還包括一個自動反射補償單元,相應調整曝光強度。最後,為了滿足大容量設備制造的挑戰性要求,AXCELIS 200 PCU包括一個高速數據接口,允許對機器進行遠程編程。這允許以完全自動化的方式執行復雜的成像序列。綜上所述,AXCELIS/FUSION 200PCU是一種先進的光刻工具,旨在滿足高精度和高容量半導體器件制造的苛刻要求。該資產配備了高精度DDSSA和密切監控模型,以及用於遠程編程系統的濾波器陣列、STL設備和高速數據接口。各種特性確保了暴露的準確性和統一性以及高水平的操作安全性。
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