二手 AXCELIS / FUSION M 200 PC #9266271 待售
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單擊可縮放
ID: 9266271
優質的: 2006
Photo stabilizer
Wafer substrates, 3"-6"
Cassette to cassette hander
UV Light exposure with photoresist / Substrate temperature
Transporters: Robotic pick and place
Lamp functions: Off, flash, low and high
Chuck temperature range: 50-240 iaC
Chuck temperature ramp rate: 0.5-2.5 iaC/sec
2006 vintage.
AXCELIS/FUSION M 200 PC是為產品開發、原型制作和生產線而設計的最先進、高精度晶圓曝光設備。該系統采用可變孔徑、高精度曝光顯微鏡，最大分辨率為20 μ m/1 μ m，視野為95 x 95 mm。該單元設計用於光刻、高級包裝、MEMS、薄膜光伏和生物電子等應用。機器的大型機械子系統提供串聯自動晶片對準、晶片聚焦和格式轉換功能。自動晶片對準，加上閉環對焦控制和廣泛的對焦範圍功能，提供了多個晶片對準的準確性和可重復性。集成的晶片處理工具可容納所有盒式磁帶、晶片莢、扁平和彎曲的基板、具有大量凸點的晶片、編織和共晶鍵合以及真空包裝內的MEMS。該資產還采用節省空間的掃描儀設計，可集成400毫米晶圓，用於工藝開發。掃描儀光學子系統強調性能高於成本，以實現現成設備的最高分辨率和精度。該光學器件由高功率短脈沖激光二極管、環境密封透鏡組件和減場光學器件組成，可提供高達200 mW/cm2的光強度，並具有較窄的光譜帶寬。FUSION M200PC旨在滿足半導體行業對高產、低成本和無缺陷華夫餅的需求。一個視覺模型中的校準特征和先進的晶圓間隔器控制設備增加周期時間和產量由於提高過程的靈活性和晶圓跟蹤。此外，靈活的應用支持操作確保了對可回收誤差的持續反饋，自動激光清洗消除了顆粒汙染，提高了產量。該系統還包括直觀的、以用戶為中心的軟件，能夠控制整個設備，包括沈積前的光照。利用直觀的拖放用戶界面，用戶可以設計自己的光刻作業，控制參數並實時監控過程。軟件還包括一個帶有機器內數據庫的曝光日誌,用於存儲和顯示過去的作業運行。總體而言,AXCELIS M200 PC在各種晶圓格式中提供精確、可重復的性能和無與倫比的可重復性,使其成為半導體制造的理想選擇。它是過程開發和生產的完美工具，快速轉換和機載數據記錄可產生高產和優異的效果。
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