二手 AXCELIS / FUSION UV #9257126 待售

AXCELIS/FUSION UV是為半導體制造中使用的光刻工藝而設計的高通量曝光設備。利用波長193納米的深層FUSION UV準分子激光光源，實現高重復性的超細特征。該系統能夠將各種尺寸和材料（如矽、SiGe、石英或玻璃）的基板暴露在300毫米以下,並針對高精度成像進行了優化。此外,該設備先進的先進光學和成像技術允許分辨率降至15 nm以下的納米範圍和線寬。該機器能夠提供量身定制的曝光，以適應各種工藝的需要，從而使每一層基板都能準確和精確地曝光。它在項目的開發階段特別有用，為原型設計和測試新設計提供了一個靈活的平臺。該工具還具有實時成像優化技術,可實現準確和可重復的曝光結果。AXCELIS UV還擁有具有直觀圖形用戶界面的最先進的資產控制器,可輕松更改設置和優化流程。此外,該模型可以集成到現有的FB中,並且可以根據特定需求進行定制。設備包括一系列安全特性。掃描頭配有安全罩，系統為人員和工作環境提供多層保護。紫外線的設計目的是用環保的工藝和材料保護環境。該設備旨在優化吞吐量,並在所有曝光過程中實現一致的結果。這是通過高效電源、高級控制算法和復雜的光學設備的組合來實現的。所使用的激光光源是為長期使用而設計的，維護最少，輸出穩定。總體而言,AXCELIS/FUSION UV是一種高效可靠的曝光機器,可提供高精度成像和可定制的曝光配置文件,並提供優化的吞吐量。它是任何半導體制造工藝的通用且經濟高效的解決方案。