二手 AXCELIS Microlite #9293673 待售

AXCELIS Microlite
製造商
AXCELIS
模型
Microlite
ID: 9293673
晶圓大小: 5"
Lithography system, 5".
AXCELIS Microlite是為亞微米晶片圖樣設計的先進曝光設備。該系統適用於最先進的光刻工藝,為200 nm以下設備的高分辨率陣列提供卓越的數值孔徑和放大倍率。Microlite憑借其專有的精密光學力學、高對比度光學和閉環成像算法,提供了優於傳統光刻系統的像差校正精度。先進的定位組件和一個離軸安裝的投影鏡頭能夠精確移動和控制該單元的光學元件。這樣可以確保準確地完成最小的固定和調整,從而實現更好的模式對齊。其優越的光學和先進的顯微鏡技術使其成為在半導體晶片上打印微圖樣的理想選擇。該機適用於廣泛的應用,如光掩模生成、納米印跡光刻等先進的光刻工藝。其緊湊的腔室和卓越的真空性能使其能夠處理光刻過程中具有侵略性的氣體化學反應。它還能夠包含高對比度特征,從而在分子尺度原型制作中實現精確的軟圖像生成。AXCELIS Microlite工具的另一個關鍵特點是它的高分辨率投影光學。該資產配備了100 µm分辨率的投影光學元件,能夠為最小的特征尺寸提供獨特的成像性能。這樣就可以暴露出各種各樣的特征,包括只有幾納米大小的線條和圖案。該模型在包括石英、金屬和介電材料在內的各種晶圓基板上提供了優越的圖樣均勻性。由於其嚴密的溫度、塗層和振動控制,進一步提高了其均勻性。Microlite還附帶了用於質量控制和OPC驗證的內置設備,這使得它能夠檢測光刻過程中甚至最微妙的變化。總之,AXCELIS Microlite是一種先進且用途廣泛的曝光系統,提供納米壓印光刻和其他先進光刻工藝所需的高分辨率。利用其內置的圖像校正算法和精密光學器件,它能夠在廣泛的晶圓基板上實現卓越的模式均勻性。因此,它是創造亞微米半導體器件和其他復雜納米結構的絕佳選擇。
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