二手 DRC UV-M10 #293642351 待售

DRC UV-M10是一種強大的曝光設備，設計用於生產半導體和薄膜器件的高性能。該系統高度自動化，集成了光刻加工工作流程的三個關鍵步驟：基板加載、曝光和曝光後烘烤。集成的工作流可實現高效且經濟高效的設備制造過程。UV-M10具有一個大面積圓形對準單元，帶有兩個工作臺臂，能夠有效地裝載和卸載基板。它能夠處理手動和自動化生產,根據基板的尺寸和正在生產的設備類型,具有廣泛的對準精度。此外,該機器的設計易於配置,並可根據客戶要求進行高度定制。曝光工具配備了先進的超高分辨率投影資產。該型號可提供高達40 mJ/cm ²的光電紫外線能量,吞吐量高達每小時1400晶圓。它還配備了一種防光設備，保證基板均勻暴露於光性紫外線輻射，從而使最終裝置具有均勻的圖樣尺寸和高度的均勻性。DRC UV-M10提供了廣泛的曝光後烘烤（PEB）功能，包括溫度控制、快速冷卻幹燥和半自動樣品處理。它旨在確保在設備性能和產量方面取得最佳效果,同時最大限度地減少生產所需的時間和能源。此外，該系統還配備了一整套軟件工具，使用戶能夠根據設備的生產要求調整曝光參數和基板溫度。這確保了可靠的制造過程,同時考慮到正在生產的設備的復雜性。該軟件還旨在解決各種安全和環境問題，如紫外線輻射水平以及與制造過程有關的任何潛在汙染問題。UV-M10是一個強大而高效的曝光單元，為生產半導體和薄膜器件提供了理想的解決方案。它的自動化工作流和高級功能使制造商能夠以經濟高效的方式快速可靠地生產高性能設備。