二手 EFOS Novacure #9396497 待售
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EFOS Novacure是用於大規模曝光研究的先進曝光設備。它通過整合各種技術來提供廣泛的接觸能力，以保證測試樣品的均勻和可靠的接觸。該系統包括一個高功率飛秒激光源和一個UV/Visible單色儀，以及在曝光過程中用於觀測和圖像記錄的數碼相機。它還包括激光單元的直列式控制櫃和各種保護用戶的安全功能。機器可以通過用戶友好的軟件界面進行控制。激光的波長範圍為200 nm至20微米，可用於短脈沖或長脈沖，以及連續波操作。其功率輸出範圍為1至500 mJ,可在各種暴露水平上提供精確的功率控制。還可以調整激光束輪廓以適應不同的材料和結構。該激光器有一個內置的冷卻工具，以確保均勻的照明和一個壓電驅動的光學模塊，以方便和精確地調整光束角度。光學紫外線/可見單色儀可確保低光背景和均勻的光譜輸出。這允許從單波長實驗到多波長曝光研究的廣泛曝光條件。數碼相機允許在曝光過程中進行實時觀察和圖像捕捉。可以存儲這些圖像,然後將其用於分析和歸檔。直列式安全櫃設有光學安全聯鎖，防止門開時雷射操作、發聲器及緊急情況下的蒸發器。它還包括一個用於均勻樣品分布的真空室。軟件界面提供了許多有用的功能，如曝光參數的調度和記錄、可編程曝光序列、實時數據監控等。它還能夠與外部硬件和外部軟件集成,以進一步增強和定制曝光資產。綜上所述，Novacure是一個用途廣泛且可靠的曝光模型，用於廣泛的曝光研究。其可靠的激光具有精確的功率控制和全面的安全特性，是實驗室和工業環境中安全可靠的研究設備。它是短、長脈沖研究、單、多波長實驗和各種曝光過程的理想選擇。
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