二手 EXFO / EFOS 100SS #9061200 待售

EXFO/EFOS 100SS是一種最先進的曝光設備,旨在為先進的光刻工藝開發提供卓越的精度和可重復性。該系統使用步長和重復的x-y蒙版放置單元（動態範圍很廣）來優化狹縫暴露蒙版的曝光。EXFO 100SS利用高端浮動階段曝光機,提高了曝光機的位置精度和穩定性。該工具由於其出色的速度和可重復性，非常適合高分辨率的直接寫入應用，如小型化。EFOS 100SS曝光資產采用可編程階段，這有助於靈活地自動曝光不同的狹縫曝光面膜。該模型的狹縫曝光能力涉及一種對準設備，該設備將光束的發散軸向分量準直，從而在晶圓上形成線性狹縫圖像。這樣可以確保狹縫圖像精確地定位在晶片上,但尺寸或形狀變化最小。為了進一步確保優異的效果，該系統有一個光學對準雙照明單元，光源來自鹵素和激光源具有寬帶寬。這允許任何範圍的波長照明選項，可能需要的曝光。雙源照明還能夠更好地控制曝光劑量，並在整個曝光過程中準確跟蹤焦點。由於具有動態狹縫掃描功能,100SS還提供了在各種曝光範圍內快速掃描速度的優勢。狹縫掃描功能允許機器在晶圓的不同區域快速連續和按可編程順序進行多次曝光。這確保了在涉及多個狹縫暴露的過程中的高吞吐量。此外，該工具還設計了一個安全的住房和氣閘資產，用於清潔環境。氣閘確保測試裝置無汙染暴露，型號配備1-1000級除塵器。總之，EXFO/EFOS 100SS曝光設備以其卓越的精度和可重復性，為先進的光刻工藝開發設定了行業標準。其先進的狹縫曝光能力和光學對齊的雙照明系統提供了精確曝光任何波長的靈活性。快速掃描速度和1-1000級塵埃過濾器可提高吞吐量和無汙染環境。