二手 EXFO / EFOS Omnicure S1000 #9061261 待售

EXFO/EFOS Omnicure S1000是一種專門設計用於實驗室環境的曝光設備，特別是用於半導體光刻和高級封裝的應用。它配備了集成腔室和高精度的機械臂，長度可達45厘米。機械臂設計用於精確定位晶片和基板在腔內。EXFO Omnicure S1000提供了廣泛的可編程曝光功能,同時具有高功率和低功率曝光劑量的設置。該系統還具有廣泛的波長設置，允許用戶從一系列紫外線、可見光源和紅外光源中進行選擇。它能夠產生高達225 mJ/cm ²的精確劑量的暴露劑量。EFOS Omnicure S1000的設計是為了確保高度的準確性和可重復性。它使用提供高重復性的線性定位單元，以及可與一系列基板和曝光波長一起使用的精密線性執行器。此外，頻率調諧預補償器可確保可重復性，而無需手動調整。Omnicure S1000還具有自動曝光過程,允許用戶設置曝光時間、曝光次數和其他因素,如電源、起始劑量和坡道速度。用戶還可以設置程序,以確保在設定的時間內連續進行多次曝光。此外,該機器還配備了監控工具和實時顯示功能,以確保獲得最佳效果。總體而言，EXFO/EFOS Omnicure S1000是一種極其可靠和精確的接觸資產，適合在實驗室環境中使用。利用一系列高性能曝光參數，該模型能夠為各種應用提供準確和可重復的結果。此外,該設備還配備了直觀的軟件平臺,使用戶能夠輕松創建、配置和應用各種自定義設置。