二手 EXP EX-T700 #9308416 待售

EXP EX-T700是為大規模生產光電器件而設計的曝光設備。適用於光刻、蝕刻、濺射、金屬沈積、離子植入等廣泛的生產工藝。EX-T700有一個光束形的伽馬源，它發出的單色光能級為1,200µW/cm2，波長範圍為150至460 nm。其線性級的速度範圍為0至12.5 Mcps，可容納高達12.5 cm x 12.5 cm的樣本量。多軸對準系統允許樣品接觸和非接觸對準，精度為0.1 µm。EXP EX-T700具有用戶友好的觸摸屏界面,允許可編程曝光時間、劑量和其他曝光參數。它還具有緊急關閉開關、自動減源、事故時自動釋放快門等多種安全特性。該單元獨特的Focus-Lead優化功能允許快速準確地設置光束焦點位置,並減少模糊的影響。這樣可以確保以最高的效率和最小的光源降解來暴露設備。EX-T700能夠生產具有良好均勻性的器件層。這是由於其先進的控制算法允許以最小的偏差進行精確和可重復的曝光。此外,該機的設計是為了最大限度地減少功耗,同時產生優異的效果.EXP EX-T700具有用戶友好的設計,占地面積小,適合大小制造站點使用。它也是為支持層沈積等錯綜復雜的過程而設計的，處理選項比傳統的曝光系統更靈活。EX-T700還具有一個集成的數據記錄工具，該工具提供有關資產性能和各種風險參數的信息。這有助於流程優化和維護流程控制。EXP EX-T700是一種高度可靠且成本效益高的曝光模型。其性能品質、安全特性和人性化界面，使其成為大批量生產光電器件的理想選擇。