二手 NITTO UM 810 #9150884 待售

NITTO UM-810 Exposure Equipment是用於制造集成電路的最先進的光刻工具。這個系統使用波長為193nm的氟化氙（ArF）準分子激光器，在半導體基板上產生極小的圖樣和特征。該單元包括兩個組件：高級曝光光學器件和機械手機器人.先進的光學器件是由一個能源--準分子激光--這是光學放大傳遞15mJ/pulse。這與精密的遮罩對準器和光學圖像投影機相結合，在晶片上創建的極小特征只有0.25米μ線寬或更小。光學元件包括用於對齊精度和叠加的像素級控制的「pinset」。這不僅使芯片制造商能夠將掩模圖案精確投影到晶片上，而且還可以消除掩模不對齊和其他像差。機器人負責晶圓的定位和對準，並配有力控對準工具，以提高精度。機器人是一種完全自主的4軸資產，能夠以0.5 μ m的位置精度移動，使其能夠精確地將基板重新定位或對齊到掩模上。機器人的高分辨率傳感器使其能夠檢測和糾正對準誤差,同時將邊緣放置誤差降低到1 μ m或更高。這些特性和組件使UM-810曝光模型成為集成電路制造的高效、精確的工具。使用波長為193nm的設備，能夠在半導體材料上創造極小的特征，同時通過機器人非常精確而嚴密的公差控制提供卓越的可靠性和準確性。該系統還使芯片制造商能夠輕松調整掩模圖樣的覆蓋,這是創建復雜且非常小的圖樣的基石,其「針腳集」允許像素級控制對齊精度和覆蓋。這將提高產量和成本效益,從而使NITTO UM-810暴露單元成為現代集成電路制造過程中的寶貴工具。