二手 ORBOTECH Nuvogo 1000 #293764954 待售
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ID: 293764954
優質的: 2018
LDI Exposure machine
Laser: 28.8 W
Minimum feature size: 24 µm
Resolution: 2.0 µm
Registration accuracy: ±10 µm
Side to side registration: 20 µm
Substrate thickness: 0.025 mm - 8 mm
2018 vintage.
ORBOTECH Nuvogo 1000是半導體和電子制造業中為高精度成像和模式生成而設計的尖端曝光設備。這套先進的系統結合創新技術,在集成電路(IC)、平板顯示器、印刷電路板(PCB)等復雜小型化電子設備的生產中提供無與倫比的性能。Nuvogo 1000的一個關鍵特點是其先進的激光曝光技術,使高分辨率的圖樣具有極高的精度和精確度。該單元利用一個復雜的激光光源投射錯綜復雜的圖樣到基板上,允許創建復雜的電路和結構與亞微米精度。激光機器提供了對暴露參數(如劑量、能量和強度)的出色控制,確保了各種基材和材料的一致和可靠的陣列設計結果。除了基於激光的曝光技術外,ORBOTECH Nuvogo 1000還配備了最先進的光學工具,使曝光面罩能夠快速和精確地與基板對準。該資產結合了先進的自動對齊算法和反饋機制,以確保最佳對齊精度,即使在存在基板扭曲或其他工藝變化的情況下也是如此。這種高精度的對齊功能最大程度地減少了叠加誤差,並提高了模式保真度,從而提高了設備性能和產量。Nuvogo 1000還具有通用的基板處理模型,支持各種基板尺寸、厚度和材料。該設備配備了可編程真空卡盤系統、機器人處理機構和輸送機系統,用於曝光室內的無縫基板裝載、卸載和轉移。該系統靈活的基板處理功能能夠高效處理各種基板類型,使其成為高混合、低批量生產環境的理想選擇。此外,ORBOTECH Nuvogo 1000還集成了高級工藝控制和監控功能,以確保整個生產過程中的最佳性能和質量一致性。該單元配備了原位計量工具、實時監測傳感器和反饋機制,使過程能夠持續優化和提高產量。這些先進的過程控制功能使用戶能夠實現嚴格的過程公差,最大限度地減少缺陷,並提高整體過程效率。Nuvogo 1000還設計為易於使用和維護,具有直觀的用戶界面、遠程診斷和自我校準功能。該機具有用戶友好的圖形界面,使操作員能夠輕松編程曝光配方,監控過程參數,實時分析生產數據。該工具的遠程診斷功能支持快速故障排除和維護,最大限度地減少了停機時間,並最大限度地提高了連續生產操作的資產正常運行時間。總之,ORBOTECH Nuvogo 1000是一款最先進的曝光模型,為生產高質量的電子設備提供無與倫比的性能、精度和多功能性。Nuvogo 1000憑借其先進的激光曝光技術、高精度光學設備、多用途基板處理能力以及先進的工藝控制功能,是尋求實現優越圖案制作效果、提高產量、提高工藝效率的半導體和電子制造商的理想解決方案。
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