二手 ORC DXP-3512 #9189059 待售

ORC DXP-3512是一種用於生產光刻口罩的曝光設備。它為用戶提供卓越的分辨率、準確性和吞吐量,以實現最佳性能。它包括一個12投影儀系統，允許多達12個晶圓同時加載到工具中。該單元具有可選的激光類型,包括248nm至193nm的ArF和248nm至157nm的KrF。這樣可確保掩碼復制的最高分辨率和保真度。它還具有分辨率12,800X12,800的高分辨率數字微鏡設備（DMD）。這增加了景深，並自動調整劑量以減少暴露誤差。DXP-3512有一臺高通量索引機，它在2.5秒內索引直徑為8英寸的晶片。工具的最大掃描速度達到90英寸/秒。此外,它還支持使用石英板、油滑塊和索引板,其10 gr/step分辨率允許用戶在資產中精確定位晶片。該模型還具有Java Visual Machine （JVM）軟件,它提供了用戶友好的圖形界面。這允許用戶輕松編輯程序並生成一套全面的輸出報告。此外，隨著設備技術和控制器的發展，該軟件可以很容易地得到更新。ORC DXP-3512還具有高級安全功能。它包括消除晶圓和曝光錯誤的基於軟件的聯鎖以及防止操作員超載和激光能量意外暴露的基於硬件的安全聯鎖系統。總體而言,DXP-3512是為高性能掩碼復制而設計的高級曝光單元。它為用戶提供高分辨率、吞吐量和準確性。它還具有可選的激光類型、高分辨率DMD、高通量索引機、易於使用的軟件和高級安全功能。這些特性使其成為可靠高效的曝光工具。