二手 ORC EDI-8010 #9376102 待售
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ID: 9376102
Exposure system
CCD Camera
SR Resist
Upper stage
Inversion
Down stream
Clean rolls
Ejection unit
Gas: PN2
Power supply: 220 V, 60Hz, 3-Phase.
ORC EDI-8010是一種主要用於光化學實驗的曝光設備。它是一個低能級(低於90J/m2min)、寬波長範圍(200-800nm)的UV-VIS輻照單元。該系統提供了一種將基板暴露在精心控制的光譜電磁輻射中的手段,用於研究、開發或過程控制。EDI-8010由一系列燈、電源、電子計時器和一個工藝室組成。該燈配有一個石英外殼,裏面裝有一管氨水和一種非輻射氣體混合在一起,無論是氮氣還是氙氣。燈的發射範圍從200到800nm,但功率輸出相對較低。電源提供的可調功率可達不同波長。此外,計時器具有100微秒的分辨率,允許精確曝光時間和重復曝光事件。加工室是ORC EDI-8010的主要特點;它是一個封閉的環境,基板暴露在各種程度的電磁輻射中。EDI-8010設計有一個主動冷卻裝置,以確保穩定的溫度,均勻暴露和熱管理。整個機器被設計為利用黑色陽極氧化鋁在其外表面上最小化雜光。這有助於限制射入工藝室的光量。該單元還配有一個安全快門,設計用於在工具不使用時關閉,減少了因意外激活資產而暴露的可能性。ORC EDI-8010的設計符合嚴格的安全、效率和精度標準。其主要目的是以受控方式傳遞均勻劑量的低能電磁輻射,並監測暴露在基板上的影響。該模型適用於一系列光化學實驗,包括但不限於,光刻、薄膜蝕刻、隱形眼鏡的研制、光刻膠的曝光。此外,它還可用於醫學研發應用,特別是在光動力學治療領域。
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