二手 ORC EXP-2050 #9361769 待售

ORC EXP-2050是為高性能光刻應用而設計的曝光設備。它具有模塊化設計，可用於各種曝光，包括利用各種紫外線、電子束和X射線源的曝光。該系統提供了廣泛的優化功能，包括光學對準、探測器定位和腔室溫度控制。該裝置采用高質量的成像傳感器，具有較高的動態範圍和優異的成像性能。成像傳感器還具有檢測較小特征的能力，從而可以提高聚焦深度。此外，它還包括一個專利的腔室設計，這有助於控制所有組件的溫度，同時確保統一的性能和高可靠性。EXP-2050利用獲得專利的智能前饋控制機器,幫助其檢測和調整曝光參數和曝光時間的最小變化。此外，它還包括一系列的控制和分析工具，使人們能夠詳細了解光刻工藝。ORC EXP-2050最獨特的特點之一就是它的可變掩碼設計。通過使用3維可變形蒙版,此工具使您能夠靈活地根據變化的工藝參數調整特征。這樣可以獲得更好的掩模性能和改進的光刻效果。使用集成軟件自動完成曝光過程。通過使用圖形用戶界面（GUI）,用戶可以從單個界面設置、監視和控制曝光過程。此外，它還提供了一個對潔凈室友好的設計，使它能夠在一系列不同的密閉空間中使用，即使在處理危險化學品時也是如此。EXP-2050易於與現有的光刻設備集成,包括步進器和對齊器。這使得它成為任何現有設置的絕佳補充,並允許用戶從自己的資產中獲得更高的分辨率和更高的準確性。綜合模型也滿足了測試要求，因為先進的計量功能使從所有暴露中獲取可靠數據成為可能。總體而言，ORC EXP-2050是一種堅固靈活的曝光設備，旨在提供高性能，以實現精確和可重復的光刻結果。EXP-2050具有廣泛的優化控制、可變掩碼設計和自動化軟件,是滿足任何高端光刻需求的理想解決方案。