二手 ORC HMW 201B 5K #293636467 待售

ORC HMW 201B 5K是為高分辨率光刻掩模書寫應用而設計的曝光設備。該系統具有5千瓦的激光功率，能夠產生寬度和高度為5微米的線路和空間。它在200毫米掩模上提供全場曝光,可用於生產晶圓制造。HMW 201B 5K單元的主要部件包括激光、空間濾波器、光束整形光學器件、掃描鏡、掩模級組件和控制器。該激光器是一種5kW、Q開關的Nd： YVO4固態二極管泵浦激光器，可在可見範圍內發射，用於光刻和掩模書寫。激光可以產生精確、高分辨率的線和空間，寬度和高度可達5微米。空間濾光機限制了激光束的發散，有利於改善光束的平行性，從而能夠準確地寫出線條和空間。光束整形光學器件包括一個10倍望遠鏡透鏡、兩個鏡面偏轉器和兩個4倍望遠鏡。掃描鏡引導激光束單次覆蓋整個200毫米寬的掩模，掩模舞臺設計為將掩模固定到位，同步移動，便於全場曝光。控制器設計用於為工具的各個組件提供精確控制和輸入命令。它具有易於使用的界面,並為模式和圖像數據輸入提供了多種功能。這樣可以確保在整個200毫米蒙版上保持一致和可靠的均勻曝光。ORC HMW 201B 5K資產具有很高的可靠性,可抵抗振動、粉塵和汙染物.它低調的設計和小占地面積意味著它可以很容易地集成到各種環境中。它還為增強用戶舒適度而設計,其工作流程簡單直觀,幾乎不需要培訓。該模型功能廣泛，分辨率高，控制準確，非常適合高精度光刻和掩模書寫應用。除創新的新應用外，它還被用於生產多種類型的半導體器件。