二手 ORC HMW 201B 5K #9384302 待售

ORC HMW 201B 5K是一種高性能、高精度的曝光設備,旨在為曝光和光刻工藝提供優異的效果。該系統配有高倍率物鏡，可提供中等數值的光圈和較大的視野。這使得它適用於種類繁多的曝光應用。該單元具有5K全場工作區域,能夠精確再現具有7nm最小特征大小的圖案圖像。這導致精確的微觀特征和高對比度模式的高度精確放置。該機器還設計用於適應大視野的快速移動，允許快速曝光和數據采集。該工具配備了專有的自動對準和跟蹤資產，以確保準確性和可重復性。該模型能夠檢測到細微的公差變化，然後可以相應地調整其參數。這大大降低了標線定位誤差，最大限度地提高了圖像質量。此外，該設備還有一個內置的質量控制系統，可監測成像過程，並能提醒操作員任何不滿意的結果。該設備還被設計為高度可配置。它能夠提供可調節的鏡頭參數、照明源的多種選項，並能在曝光時間和功率水平上提供靈活性。這使得它適用於廣泛的應用，包括光掩模光刻、納米印跡光刻以及多種其他應用。最後，機器設計有一個強大的，用戶友好的界面。操作員可以輕松地對工具進行編程,以獲得所需的曝光結果。自動化選項也可用,可以大大縮短曝光時間,同時確保可重復成像結果。綜上所述，HMW 201B 5K是一種高性能、高精度的曝光資產，旨在獲得優異的效果。憑借其可調透鏡和多重照明選項，可用於多種光刻和成像應用。自動對準跟蹤和內置質量控制模型可確保準確性和可重復性。最後,該設備具有強大的用戶友好界面,支持自動化以實現更快的曝光和可靠的結果。