二手 ORC HMW 680G-20EC #293636469 待售

ORC HMW 680G-20EC是一種精密曝光設備,用於高分辨率、光刻掩模和其他成像格式的精確可靠曝光。曝光系統由一個填充680W氙氣的反射器、一個20元石英冷凝器和一個光柵掃描頭組成。該裝置能夠產生高達0.3-0.5毫秒的曝光時間，最大分辨率為3.5微米，非常適合高質量的光刻面罩生產。該機還具有防光過度曝光保護工具，以及由可編程命令資產自行調節和控制的高輸出功率。該模型的工作原理是使用680W的氙填充反射器、一個20元的石英冷凝器和光柵掃描頭來產生曝光時間。反射器由高拋光鋁制成，功率因數（PF）為0.98，比市面上的其他反射器效率高達20%。石英冷凝器有20個元件，旨在為高分辨率成像提供最佳照明，最小化光衰減，並在曝光頭產生均勻的光分布。然後,光柵掃描頭采用預定的像素圖樣,並將其柵格化在基板上。該設備還具有可自行調節的高輸出功率，可以使用手動或自動控制系統進行調節。手動控制單元允許操作員手動調整曝光時間和功率輸出，而自動化機器則可以編程為自動調整設置。此外,該工具還具有自動調平功能,允許操作員在需要時增加曝光時間。除了性能外,HMW 680G-20EC還提供無與倫比的穩定性、長期可重復性和魯棒性,使其成為生產環境的理想選擇。所有組件的設計都能承受極端溫度和其他環境變化，即使在最惡劣的條件下也能提供可靠的操作。該資產旨在產生準確和一致的風險，即使經過多年的使用也能產生可重復和可預測的結果。總體而言,ORC HMW 680G-20EC是一種先進、可靠且功能豐富的曝光模型,針對高分辨率光刻掩模生產和其他成像應用進行了優化。它具有高的輸出功率、不耦合的曝光速度以及多年的可靠性能,是依賴精度和可重復結果的生產環境的理想選擇。