二手 ORC HMW680GW #9384301 待售

ORC HMW680GW曝光設備是最先進的最先進的工具之一，可用於光掩模制造商。它使用高度專業化的準分子激光技術在光掩模上創建極細的圖案。它體積小巧、生產率高、效果優異,是光掩模制造商和研究實驗室的寶貴工具。該系統結合了先進的準分子激光源和高精度光學掩模級。激光光源利用氙氣，曝光波長典型為248nm；此外，脈沖重復率由5kHz調整為25kHz。可通過用戶調節來改變50 nm至1um以上的曝光深度。曝光裝置還配備了先進的自動對焦機，利用激光幹涉測量來快速準確地將激光束聚焦到光掩體上。自動對焦工具配有xy級定位的高精度級，以進一步確保蒙版曝光的準確性和穩定性。除了出色的激光驅動曝光能力外，ORC HMW 680GW還通過光刻和sizaigefuro支持光敏材料的曝光。這讓用戶可以利用一系列常見的光源，如最新的弧光燈，以及深層紫外線LED等專用光源。HMW680GW暴露資產對暴露參數具有高度的控制和準確性。這允許用戶根據自己的需求微調曝光參數，即使在使用極薄的晶片等具有挑戰性的基板時也是如此。此外,該模型還包括各種自動化功能,可實現更高效、更快和方便的工作流程。總體而言，HMW 680GW曝光設備為光掩模制造商和研究實驗室提供了一個強大的工具，可以在光掩模上產生高質量的圖樣。它具有自動對焦和用戶可調節的激光脈沖速率等多用途性能和高端特性，能夠高效生產具有極精細圖案的光掩模。該系統非常適合研究和開發以及生產實驗室。