二手 OVAC OV29 #82531 待售

OVAC OV29是一種用於半導體工業生產高性能IC的曝光設備。用於在半導體器件制造中將高精度工藝材料的均勻層沈積到晶片上。OV29能使均勻層沈積以較高的沈積速率發生,並且對包括介電、金屬、聚合物和氧化物在內的一系列材料具有極好的階梯覆蓋。OVAC OV29由集成真空室、雙離子源工藝室和加熱室組成。集成真空室有助於在整個沈積過程中保持高水平的過程控制和良好的真空性能。該工藝中使用的氣體可通過兩個工藝室之一泵送到源側或基側。這兩個腔室都具有較高的源到基底距離能力，有助於提供出色的階梯覆蓋。此外，該系統所含的加熱室適用於較厚和較密層的沈積，如高k電介質。OV29通過使用改進的視線技術提供了出色的附著力和均勻性。這提供了基板的完全覆蓋，無論晶圓幾何，從而確保沒有間隙。該單元還具有一個可用於同時精確沈積多層的多工藝室。這確保了最復雜的設備能夠以高效和經濟高效的方式生產。OVAC OV29與標準晶片和粘合晶片兼容，還能夠處理各種其他基材，包括矽、砷化的和玻璃。此外，機器的均勻層沈積使得能夠使用先進的計量學方法，例如原子力顯微鏡（AFM）來監視每一個製程步驟的進度。它提供實時反饋,可用於根據需要調整流程參數。OV29是為最具挑戰性的應用而設計的通用可靠的過程解決方案。結合其卓越的性能、均勻的層沈積和多工藝能力，該工具是成功生產高性能IC的理想選擇。