二手 QUINTEL Q4000-6 #9258038 待售

QUINTEL Q4000-6是為半導體行業設計的最先進的曝光設備。該系統具有多種特點，使其成為先進光刻應用的理想選擇。首先,Q4000-6是為大批量生產而構建的。它提供每小時12個晶圓的吞吐量,比對速度為每秒8個驅動器。這個單元還能夠以25微米的分辨率進行簡單到中級的應用。QUINTEL Q4000-6同伴強壯，場尺寸為200 mm x 200 mm，模具尺寸為6英寸，場尺寸為12英寸，模具尺寸為35mm x 35mm。這臺機器具有很高的定位精度,即使尺寸很小,也會產生低於0.3%的結轉誤差,以確保結果一致。在曝光精度方面，此工具可以在0.5微米內保持對準精度的同時實現線寬減小至2微米。它還具備暴露小特征和分離光刻工藝的能力，允許高度定制的生產環境。Q4000-6集成了高效且易於使用的軟件,能夠存儲和編輯整個設備庫,並為曝光過程生成復雜的分層。該資產還具有用於程序庫的大容量,從而實現了更復雜的流程和更高的生產輸出。為了保證質量，QUINTEL Q4000-6利用一系列內置傳感器來確保可重復的模式精度。這些傳感器甚至可以檢測最微小的模式異常，並提供實時反饋，在整個生產周期中保持質量保證。總而言之,Q4000-6是一種功能強大且高效的曝光模型,可為大容量生產環境提供卓越的性能。它具有快速的吞吐量和高精度,提供了無與倫比的靈活性和質量控制級別。