二手 SEIWA PA-920V-INL-5 #9293008 待售

SEIWA PA-920V-INL-5是一種用於光掩模生產的高度先進和先進的曝光設備。該系統旨在生產具有0.5 µm或更小特性的口罩。它采用全尺寸液晶觸摸屏和10.4英寸顯示屏,便於控制設備的功能。這臺用戶友好的機器提供了各種曝光選項和配方，可以量身定制以滿足客戶的需求。PA-920V-INL-5具有蒸發膜沈積源，使鉻板與優化的抗蝕層層合。這提供了更好的分辨率和更高的衍射能，從而導致更好的質量成像的光掩模。沈積源還能覆蓋整個板塊區域，不需要使用手動掩蔽。該工具配有電子繪圖儀和LED曝光源。繪圖儀設計用於在曝光前在鉻板上精確繪制圖樣並創建圖樣。LED曝光源利用最新的先進技術提供可靠和均勻的照明。這允許對曝光前創建的陣列進行精確成像。SEIWA PA-920V-INL-5的一個獨特特點是其精密的真空資產。真空不僅可以在基板上獲得更好的均勻抗蝕層厚度，而且還可以改進對裸露板的目鏡觀察。利用真空模型，PA-920V-INL-5具有自動檢測真空壓力水平的能力，從而改善了光掩模的成形。SEIWA PA-920V-INL-5可與各種接觸面罩和磨盤配合使用，提供理想的拋光條件。這允許根據客戶要求均勻拋光光掩模。該設備還可與多處理室和酸蝕刻單元配合使用，以進一步精確控制。利用PA-920V-INL-5曝光系統中所采用的最新技術,可以一致有效地生產出小至0.5 µm的光掩模。該單元設計為易於使用和最大的靈活性都在一個包。它集成了復雜的真空和優化過程,以經濟實惠的價格提供卓越的光掩模生產質量。