二手 SEIWA PA-920V-INL-7 #9293010 待售

SEIWA PA-920V-INL-7是為半導體制造過程中的光掩模生產而設計的曝光設備。它是一個步進掃描儀平臺，具有6英寸方形的光掩模級和雙11英寸的Exactrail表，允許大的光掩模尺寸和高吞吐量。該系統可提供高達0.25 μ m的分辨率,並利用高強度、分割場、四存儲管、深紫外線投影光學單元進行曝光。該機集成了高精度運動控制工具，實現了更高的定位精度和優化的無抽動。通過在8英寸圖像字段中進行長達2.3秒的掃描,該資產旨在降低大型光掩模生產的復雜性。其先進的曝光算法選項使它能夠處理甚至最復雜的形狀。該模型可設置為多種用途，如短曝光時間、激光直接寫入和混合模式曝光。它的模塊化設計允許在不同的曝光應用程序之間快速轉換,並能夠輕松升級到新的流程需求。此外，這些設備即使持續使用也能長壽。PA-920V-INL-7具有自動聚焦、特定於應用程序的對齊和自動曝光優化等高級功能。自動對焦結合了對焦光學形狀識別和對焦測量，具有卓越的準確性和可重復性。另一方面,對齊模塊會根據其固有的設計特征自動對齊光掩模。自動曝光模塊允許系統為正在生產的光掩模的每一層優化曝光參數。該單位提供全面的暴露後檢查和分析能力。它提供了三維晶片重建和熱點檢測機器，以確保產量卓越。它還提供了廣泛的數據記錄功能,允許操作員在生產運行期間跟蹤關鍵參數。該工具可以連接到多個外圍設備，如額外的檢查攝像頭和計量配件，以進一步確保質量控制。SEIWA PA-920V-INL-7是光掩模生產的一種高度可靠和具有成本效益的曝光資產。憑借其先進的特性和功能,此模型消除了與光掩模生產相關的麻煩和時間。它允許高吞吐量、卓越的精度和可重復的性能，使其成為現代半導體制造的理想解決方案。