二手 ULTRA OPTICS MR3 #9305723 待售

ULTRA OPTICS MR3是ULTRA OPTICS, Inc.為半導體生產中使用的光刻工藝設計的曝光設備。它利用極紫外線（EUV）的短波長投射模式到矽片上。該系統可以曝光不同尺寸和分辨率的模式，並可用於創建多種復雜的半導體器件。曝光單元由三個元素組成：源、投影光學元件和掩模。該源產生EUV輻射，它被投影光學器件聚焦成一個緊密、狹義的光束。保持要暴露的陣列的蒙版放置在梁的路徑中。MR3使用的光源是由相對論-電子束激光器產生的EUV激光器。這種激光發射的光波長為13.5nm，比可見光譜短得多，光束直徑為0.6mm。這個波長足夠短，可以穿透矽晶片的高電阻率層，讓圖樣被蝕刻到基板上。作為EUV光束透鏡的投影光學器件設計用於高分辨率投影。它們由一系列磁光和多層塗層的反射鏡和透鏡組成，這些反射鏡和透鏡將光束聚焦到晶圓上。可以調整光學器件的焦距以改變投影圖案的大小。遮罩由一系列反射金屬圖案組成，是機器中的關鍵部件。它被放置在光束的路徑中，使得模式被投射到晶圓上。模式本身，可能是簡單的形狀或更復雜的設計，是根據期望的結果選擇的。這三個組件-源、光學元件和掩模-共同構成了ULTRA OPTICS MR3曝光工具。作為市場上最先進的EUV曝光系統之一，它能夠生產速度和細節都非常出色的復雜半導體器件。該資產可用於創建用於制造半導體集成電路的各種晶體管、邏輯門和其他組件。