二手 USHIO HB-25102AF-A #9167718 待售

USHIO HB-25102AF-A是一種先進的曝光設備,旨在提供精確的曝光控制。它設計方便地處理不同種類的基板，並以先進的光學器件和可更換的狹縫葉片提供高速曝光。該系統具有高度精確的曝光控制器，可確保在廣泛的波長範圍內保持一致的曝光強度。它的控制範圍為0.01-767 mJ/cm^ 2，允許各種各樣的曝光設置。此外，HB-25102AF-A還配有一個高精度的溫度控制裝置，能夠精確的溫度控制和穩定。USHIO HB-25102AF-A配備了用於精確定位和曝光均勻性的高級狹縫刀片。這個狹縫刀片可以用一個微小的旋鈕調整到曝光所需的確切位置。狹縫刀片的精確定位確保機器的曝光範圍對於每個晶片保持均勻。該工具還具有晶圓夾緊資產,便於精確的樣品加載。此外,HB-25102AF-A還配備了易於使用的全尺寸液晶觸摸屏和基於Windows的軟件界面,可輕松控制曝光。界面允許用戶設置基板參數，實時監控曝光結果。USHIO HB-25102AF-A還配備了一個軌跡球,可以方便地通過用戶界面進行導航。HB-25102AF-A內置LED,可提供明亮的背景照明,以便在曝光過程中輕松查看樣品。LED指示燈可調節到樣品曝光的最佳水平。該模型還帶有一個內置的空氣凈化設備，可防止樣品在暴露過程中起霧。總體而言，USHIO HB-25102AF-A是一種高精度、高速曝光系統，旨在提供精確準確的曝光控制。適用於不同類型的基板，提供高精度的樣品負荷和曝光控制。憑借先進的光學器件和可更換的狹縫葉片，該裝置能夠在廣泛的波長範圍內曝光。該機的液晶觸摸屏和基於Windows的軟件使曝光控制和監控變得容易，其內置的LED和空氣凈化工具使樣品不起霧，並提供最佳照明。