二手 USHIO PE-250R2-SE #9280628 待售

USHIO PE-250R2-SE是一種曝光設備，旨在高效、準確地曝光半導體行業的光掩模。該系統采用可移動掩模對準器構建,可同時處理大小光掩模,分辨率可達到3 μ m ±。開放式框架設計和高容量對齊器可以為各種設備高效地生產各種光掩碼。PE-250R2-SE的UV光源是基於一個氘燈，它提供205-405 nm範圍內的光譜，並提供10 mW/cm2的最大強度。該單元可以使用手動模式操作，也可以在程序控制下操作，能夠協調多個光源設置和蒙版曝光。USHIO PE-250R2-SE曝光機已經開發出具有安全功能，以保護曝光盤和遮罩對準器免受意外使用。該工具配有一個檢測人員存在的安全墊和一個停止資產的緊急開關。此外，該模型被單獨封閉，以確保與可能影響其性能的灰塵和其他粒子隔離。PE-250R2-SE設備采用全自動掩模裝卸系統。一系列傳感器可確保正確定位光掩碼,並且由於所有過程都是自動化的,因此錯誤會最小化。對曝光條件的一系列調整使得精確控制曝光過程成為可能。USHIO PE-250R2-SE單元還配備了數據管理機器，允許管理和存儲多個掩碼程序。其中包括一個微處理器控制器,它允許設置多個曝光配置文件。還可以從PC和其他外部設備遠程控制曝光,從而提高工具的可用性。PE-250R2-SE采用冷卻資產構建,確保模型保持在最佳溫度下,從而實現高效、準確的操作。總體而言,USHIO PE-250R2-SE設備是尋求可靠高效EXP系統的用戶的理想選擇。該設備提供高分辨率、精確的曝光設置和一系列內置功能,以實現高效且值得信賴的光掩模曝光過程。PE-250R2-SE的設計多種多樣,易於使用,確保了任何電路板制造過程的最佳生產線。