二手 USHIO PE-250R2-SEPE #9280625 待售

USHIO PE-250R2-SEPE是為超高精度半導體加工而設計的一系列高端曝光系統。它使用激光束以極高的精度和無與倫比的重復性將圖樣投射到晶片上，使晶片的生產具有高密度和均勻性。設備配備150 mm晶片級和6軸運動機構，精確控制晶片的位置和角度。高精度快門系統、5軸電動舞臺、智能軟件，既保證了準確性，又延長了機組的可用壽命。該機具有特殊的聚焦模式，可根據晶片預定的聚焦深度自動調整焦點位置，確保高清度圖樣以更高的精度射到晶片上。該工具具有集成的自動聚焦資產、焦點補償和自動平整以及自動晶圓檢測等高科技功能。它在組合掃描過程中起作用,允許為各種不同的過程提供廣泛的模式庫。PE-250R2-SEPE提供超高精度、重復性和可靠性,並為各種設備和過程提供單一的設備平臺。其無與倫比的精確度允許精確的圖樣放置和曝光，這在半導體工業中至關重要，因為精確度和可重復性是質量保證的基石。USHIO PE-250R2-SEPE與通常用於制造高端芯片的SOI、SiGe、HV-SiC、SiC和AlN基板等難加工材料兼容。該型號采用緊湊的設計和先進的安全措施，如光束百葉窗、門傳感器和聯鎖裝置，可以安全高效地操作。綜上所述，PE-250R2-SEPE是為半導體晶片的超精密處理而設計的最先進的曝光設備。它允許晶片被精確的陣列和無與倫比的準確性和不容忍暴露。USHIO PE-250R2-SEPE與難以加工的材料兼容，並附有先進的安全措施，以確保高效和安全的操作。