二手 USHIO UMA-2003 #9397449 待售
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ID: 9397449
晶圓大小: 12"
UV Cure system, 12"
Process: 6500-35 Gate resist cure
Basic system: UMA-2003-H120F UVC
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
Wafer:
Semi wafer M28: 775, ±25 µm
Wafer type: Notched
TDK TAS-300 Carrier
Interface: (2) FOUP
With semi compliant MENV and FIMS assemblies
Carrier ID: (2) Bar codes
Display with EMO: Front and back
(4) Front side lamp power supplies
Interlocks: Power supply unit and mini-environment with panel
Lamp house
Cable length: 15 meter
Signal tower
HP CL Plate with vacuum
Detection sensor: Port 1 and 2
Lamp power supply
Chiller
Robot controller
Exhaust: 6m, 3/min
Lamp cooling: 20m, 3/min
(3) Lamp exhausts: 7m, 3/min
Water supply:
Chiller:
Temperature: 25°C
Flow: 60 L/Min
Pressure: 1 Mpa
Main unit:
Temperature: 10°C - 25°C
Flow: 60 L/Min
Pressure: 0.5 - 0.6 Mpa
Gas:
Gas name / Flow rate / Pressure
CDA / 5.4 - 280 / 0.5 - 0.6 Mpa
N2 / 10 - 50 / 0.5 - 0.6 Mpa
Vacuum / 80, 40L/min / -
Chiller power supply: 200 V, ±10 V, 50/60 Hz, 33 A, 3-Phase
Power supply: 200 V, ±10 V, 50/60 Hz, 175 A, 3-Phase.
USHIO UMA-2003是為各種噴射和放置材料設計的自動曝光設備。該系統廣泛應用於電子行業，能夠快速、準確地向玻璃、金屬、塑料等表面噴射和放置材料。USHIO UMA 2003是一個高度可靠的單元，提供高質量的輸出。曝光機的最大紫外線曝光面積為800 x 800毫米，並具有可變功率頭，最大曝光面積為200 x 200毫米。曝光工具可以很容易地進行調整，以滿足每種材料的曝光需求。這種曝光資產利用石英曝光燈來確保均勻和一致的曝光。可編程控制器可確保精確控制暴露時間、能量水平和強度等暴露參數。這樣做是為了確保材料在整個暴露過程中暴露於正確劑量的能量。控制單元還具有精確定時的關閉功能,以確保獲得最佳效果。UMA-2003具有許多安全功能,以確保安全的操作環境。其中包括安全互鎖、安全開關和警告模型，以提醒操作員任何潛在的暴露風險。設備還配有全套工具和配件，以確保高效運行和維護。附件包括一個管處理夾具，曝光強度監視器，燈和曝光控制系統。這包括一個集成的24小時時鐘和安全開關,以確保在達到曝光時間時關閉設備。該機器還提供培訓和技術支持，以確保操作員和技術人員熟悉該工具及其功能。這確保了資產的安全高效運行，並實現了最佳效果。UMA 2003提供了一個安全、可靠和高精度的解決方案,可滿足各種暴露應用程序的需求。USHIO UMA-2003以其高效、準確的操作,是電子行業和接觸噴射和放置材料的個人的可靠且受歡迎的解決方案。
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