二手 USHIO UMA-802-HC55RM #9392072 待售

USHIO UMA-802-HC55RM曝光設備是一種高精度的單束面罩對準器.它專為光刻和納米印刷技術而設計，提供高度精確的感光材料放置和成像。該系統包括一個緊湊、風冷的紫外線光源、一個80毫米的真空板和一個自動視覺對準單元。紫外線光源采用金屬鹵化物弧燈，額定功率250瓦，曝光波長350至450納米。它的石英反射器保證了光線的精確聚焦，它的1500瓦電源保證了可靠和一致的性能。光源可靠性高，可以長時間連續使用。UMA-802-HC55RM的真空板結構高，圓周運動範圍為16微米，保證了光敏材料的放置精度。該板設計用於保持其表面汙垢的精度，而板的運動也由差動驅動螺釘輔助。真空板也允許X軸和Y軸內的運動，以更精確的對準。USHIO UMA-802-HC55RM的自動視覺對準機高度精確，可以編程以尋找光敏材料並將其對準預設覆蓋模板。這樣可以確保每次都有一個準確和可重復的過程。對齊工具還包括自動對焦功能，允許用戶利用其在納米印刷品光刻等應用中的功能。最後,UMA-802-HC55RM曝光資產具有先進的光學封裝.光學封裝包括消色差透鏡、分束器和光圈。光學器件有效地消除了任何像差問題，允許波長均勻性和效率。光學元件還具有在UV範圍內的擴展模型，允許更高速度的圖像形成。總體而言，USHIO UMA-802-HC55RM曝光設備是最先進的生產單元，適用於光刻和納米印刷技術。它以高精度單束遮罩對準器、強大的UV光源、高精度真空板、先進的自動視覺對準系統和先進的光學封裝提供可靠一致的性能。UMA-802-HC55RM對於需要可靠和精確暴露裝置的實驗室來說是一個絕佳的選擇。