二手 EDWARDS EUV Ezenith #9300637 待售

EDWARDS EUV Ezenith是為半導體光刻應用而設計的設施設備。它是生產集成電路、平板顯示器和微機電系統（MEMS）的高分辨率圖像的必要工具。Ezenith利用極紫外線（EUV）輻射在這些組件上創建圖像,從而實現具有低汙染風險的精確特征。Ezenith波長範圍很廣，從7.0nm到40.0nm，意味著任何EUV光刻應用都可以利用它。此外,它的大光學光圈允許它產生較長的焦距,從而可以以較高的分辨率成像較大的尺寸。Ezenith還因其真空和溫度控制的環境，以及其高剛度的框架，提供了高工藝重復性。這樣可以確保每次使用光刻工具時都會在項目上重新創建相同的圖樣。Ezenith的有源光學設備有助於元件的精確對準，而它的大型動態帶狀透鏡可以對基板進行完美的成像。成像系統配有高靈敏度傳感器，可確保圖像清晰度和高精度對準，同時最大限度地減少曝光時間。Ezenith還包含一個可自定義的用戶界面,它可以方便地操作機器,並可以自定義用於衍射、成像和掃描的參數。這些功能使Ezenith能夠產生最佳的工作流效率。所有這些都由高級伺服控制單元支持,該單元可防止機器崩潰或發生故障。Ezenith的伺服控制機也有助於減少振動，這個問題如果不加以檢查就會對圖像造成幹擾。最後,Ezenith提供簡單的維護選項,使其成為潔凈間和半導體制造車間的理想選擇。它可以配置為自我診斷、識別問題並允許在需要時重新校準。這樣就不需要在進行維修時關閉機器,從而實現最大的正常運行時間。總體而言，EUV Ezenith是一種非常先進的半導體光刻應用設備。其眾多功能，如其主動光學工具、區域鏡頭、伺服控制資產、用戶友好界面，使其成為尋求速度、精度和可重復性的潔凈室和半導體制造廠的完美選擇。