二手 LAM RESEARCH OX-DEP.A3 #293628077 待售
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LAM RESEARCH OX-DEP.A3是一種高性能設備，在半導體工業中用於將氧氣薄膜蝕刻和沈積到矽片表面上。這一過程被稱為牛沈積，用於制造具有高導電性的纖薄層，例如晶體管元件或其他電子元件。該設備旨在以最高效率運行，並為各種氧化物蝕刻和沈積應用提供一個穩定的工藝平臺，從低成本的淺層氧化物沈積到高溫的高掩模氧化物蝕刻。該OX-DEP.A3具有高效的氣體輸送系統，確保精確的氣體控制，並在整個晶片表面提供精確的均勻蝕刻和沈積速率。該容量通過使用多個高通量氧化鋁（Al2O3）卡盤組件和石英壓電噴射器來實現。該設備在蝕刻/沈積循環的所有階段提供高度控制，包括晶片加載和處理、均勻的蝕刻和沈積速率、均勻的材料厚度和最小的汙染。OX-DEP.A3上的牛沈積過程是完全自動化和監測的，使其能夠始終如一地高速提供質量結果。先進的數字控制系統使技術人員能夠快速調整編程過程參數，並實現實時反饋和監控。為確保最佳性能,采用超高真空（UHV）等先進的現場監測技術檢測汙染物,並確保沈積速率、流速和離子轟擊在可接受的範圍內。OX-DEP.A3采用3800mm x 2700mm x 800mm（W x D x H）的大型不銹鋼腔室設計，高壓操作高達600mtorr，具有10,000瓦的電阻加熱能力。這種高性能的設備設計既堅固又可靠，能夠提供有效的氧化物蝕刻和沈積過程所需的準確性、高吞吐量和低維護。它結合了先進的特性、先進的監控技術和可靠的性能，使其成為研究和生產應用的理想選擇。
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