二手 AIBT / ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300 #9211571 待售

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ID: 9211571
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Ion implanter, 12" Wafer type: Notch Wafer per batch: 13 (4) Load ports (2) Cyro pumps: Process chamber: HELIX 350 mm on board Turbo pumps: EDWARDS STP-A2203 WAV EDWARDS STP-451C Dry pumps: EBARA 40*20 EBARA 65*40 EBARA A70W High voltage: Drift mode voltage Low range: 1.0 kV ~ 10.0 kV High range: 10.0 kV ~ 80.0 kV 2006 vintage.
AIBT/ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300是一款設計用於制造電子元件的雙束離子植入器和顯示器。AIBT iStar 300是一種高效的工具,允許精確控制和精確植入摻雜劑以生產半導體元件。這種離子植入器和監測器具有廣泛的特點,包括粒子束電流的調節、束輪廓的監測、束電流的自動優化、植入物深度的調節、表面發射的調節。ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300具有強大的離子源,能夠根據材料類型和應用產生幾種不同的離子種類。這允許廣泛的植入,包括硼,砷,磷和的。IStar 300還配備了高流量快速充電交換真空泵和精確調節植入物參數的壓力表。AIBT/ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300設計為用戶友好,配備自動化配方設備,便於設置和監控植入參數。AIBT iStar 300附有圖形化的使用者介面,讓光束電流、電流展平、光束輪廓、光束收斂、光束光譜純度等參數容易調整。此外,這種離子植入器和監測器可以調節植入物的深度和表面發射參數。ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300配備了多種診斷工具,包括離子能譜儀、光束表征成像系統、電光譜儀和離子深度測量單元。此外,它還能夠用自動駕駛儀監測離子束電流和束輪廓,從而對植入物參數進行連續監測和控制。總體而言,iStar 300是一款先進的離子植入物和顯示器,旨在為制造電子元件植入摻雜劑提供高精度、準確性和性能。它具有強大的離子源,能夠產生多種不同的植入物類型,以及各種診斷和監測工具。圖形用戶界面使得設置和調整植入參數變得容易,讓用戶從他們的AIBT/ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300離子植入器中獲得最大的收益。
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