二手 AMAT / APPLIED MATERIALS / VARIAN Solion XP #9208076 待售

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ID: 9208076
優質的: 2015
Boron ion implantation system Gross steady state throughput: ≥ 3000 wph Boron blanket implant: Up to 2.5E15 steady state 3000 wph Breakage rate: < 0.10% Operation up-time > 90% Metal contamination: > Fe, Ni. Cr, Mg, < 2E10 atoms/cm2 Wafer uniformity within 3% Wafer to wafer repeatability: 4% Wafer: Substrate dimension: 156 mm Substrate thickness: 180 to 220 um Substrate geometry: Pseudo square Substrate surface: Textured wafer 2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/VARIAN Solion XP是一種用於半導體生產的高精度離子植入器和監控設備。它為制造半導體、顯示器和其他電路提供快速、精確和準確的離子註入和監控。它能夠植入高達1200 A/cm2的摻雜劑濃度,並提供三維分辨率低至30 nm的類似生命的成像。AMAT Solion XP還具有主動位置監控和閉環源電源控制功能,使其成為高分辨率成像應用的理想選擇。XP配備了最先進的掃描室、高分辨率離子探測器和精密晶圓處理系統。它采用用戶友好選項設計,如自動資源分配、自校準和軟件控制。這些功能使用戶能夠在工作人員很少參與的情況下準確高效地植入。它還具有易於使用的圖形用戶界面(GUI),使編程和參數設置變得簡單明了。VARIAN Solion XP具有可調的光束尺寸和對齊方式,可實現最佳的植入精度.它的自動調諧單元可以自我校正任何環境幹擾,使得它在均勻植入和輻射場應用中都具有很高的可靠性。自動電源控制在整個植入過程中保證均勻的光束功率。APPLICED MATERIALS Solion XP也可用於實時監控過程,允許快速糾正措施。機器配備了檢測設備,可以測量和報告光束通量、電流、擴散、光斑大小和頻率。它還有一個多通道序列實現工具,允許復雜和精確的植入規範。對於希望通過優化植入過程來降低成本和保持質量的制造商來說,Solion XP非常理想。其可擴展性和先進的特性使其成為半導體行業未來創新的平臺。AMAT/APPLICED MATERIALS/VARIAN Solion XP具有卓越的精確度和靈活的編程功能,是任何企業都能使用的強大而可靠的設備。
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