二手 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200-HC #293829781 待售
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ID: 293829781
晶圓大小: 6"
Ion implant, 6"
(4) Cassettes
Standard specific layout
ELS Source
Source analyzer magnet
Y Scan and rotary
Beam energy configuration:
Beam energy: 10 ~ 160 keV
Extraction mode: 10 ~ 80 keV
Acceleration mode: 10 ~ 80 keV
Vacuum pump system:
Diff pump: Diff pump8
Cryo pump: CTI-8, CTI-10
Cryo compressor: CTI9700A
Dry pump: IQDP40, IQDP80
Gas / Model / MFC Type
AsH3 / MFC / SDS
PH3 / MFC / SDS
BF3 / MFC / SDS
Ar / MFC / Standard.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200-HC是為高精度半導體處理應用而設計的尖端離子植入器和顯示器。該設備利用先進的技術和創新的功能,在離子植入過程中提供無與倫比的性能和可靠性。AXCELIS GSD 200-HC的核心裝有一個高電流離子源,能夠產生極高精度和精確度的聚焦離子束。該離子源被安置在真空室中,以盡量減少汙染,並確保整個植入過程的性能一致。離子植入過程本身涉及轟擊一種具有高能離子的底物,以改變其材料特性,並產生特定的電特性。EATON NOVA GSD 200-HC能夠精確控制離子的能量、劑量和分布,以達到所需的植入輪廓,使其成為廣泛半導體制造應用的理想選擇。GSD 200-HC的一個關鍵特點是其先進的光束線系統,其中包括靜電和磁性元素,以高精度地操縱和聚焦離子束。這個光束線單元允許精確控制植入過程,確保離子以最小的發散和散射傳遞到基板上。EATON NOVA/AXCELIS GSD 200-HC除了其出色的光束線機外,還配備了綜合監控工具,以優化植入過程。該資產包括對光束電流、能量和劑量等關鍵參數的實時監控,使操作員能夠微調過程以獲得最佳性能。AXCELIS GSD 200-HC的另一個重要特點是其先進的晶圓處理模型,自動化基板的裝卸,最大限度地減少停機時間,最大限度地提高吞吐量。這種設備可以容納各種基材尺寸和形狀,使其在不同的半導體制造應用中具有高度的通用性。為確保離子植入過程的安全性和可靠性,EATON NOVA GSD 200-HC配備了一系列安全聯鎖和監控系統,以防止事故發生,確保平穩運行。這些安全特征包括輻射檢測傳感器、真空泄漏探測器以及緊急關機機制,以保護操作員和設備。總體而言,GSD 200-HC代表了最先進的離子植入器和顯示器,為半導體制造應用程序提供卓越的性能、可靠性和多功能性。該系統以其先進的技術和創新的特點,非常適合半導體行業的高精度植入工藝,成為優化器件性能和產量的重要工具。
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