二手 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200-HC #293829783 待售

ID: 293829783
晶圓大小: 6"
Ion implant, 6" (4) Cassettes Standard specific layout ELS Source Source analyzer magnet Y Scan and rotary drive Beam energy configuration: Beam energy: 0 ~ 80 keV Extraction mode: 0 ~ 80 keV Vacuum pump system: Turbo pump: Seiko seiki pump STPA2203C2 Cryo pump: CTI-On board-8, On board-10 Cryo compressor: CTI-9650 Dry pump: QDP-80 (Two units) Gas / Model / MFC Type AsH3 / MFC / SDS PH3 / MFC / SDS BF3 / MFC / Standard Ar / MFC / Standard.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200-HC是為高通量半導體處理應用而設計的尖端離子植入器和顯示器。這種先進的設備采用了最先進的技術,為生產質量和性能卓越的集成電路提供精確可靠的離子註入。NOVAAXCELIS GSD 200-HC專為滿足半導體行業苛刻的要求而設計,提供卓越的工藝控制、多功能性和效率。EATON NOVA GSD 200-HC的核心是其離子植入室,該室容納先進的離子源技術,產生並加速離子,以實現精確的植入深度和能量。該系統配有控制離子束軌跡和強度的先進束線單元,確保在半導體基板上均勻摻雜。離子源具有高電流、高能量的能力,使各種具有不同能量的離子物種的植入能夠滿足多樣化的工藝要求。NOVAGSD 200-HC配備了創新的光束監控機,可實時連續監控離子束特性。這確保了準確可靠的離子註入,因為光束電流、能量和光斑尺寸的偏差被及時檢測和校正,以保持過程的穩定性和一致性。該工具還具有全面的診斷工具和自動校準例程,可優化光束性能並最大程度地減少停機時間。EATON NOVA/AXCELIS GSD 200-HC的一大亮點是其先進的晶圓處理資產,它能夠以卓越的精度和可靠性實現半導體晶圓的高通量處理。該模型能夠處理範圍廣泛的晶圓尺寸和類型,包括矽、砷化氙和其他半導體材料,為制造商的生產操作提供了靈活性和可擴展性。晶圓處理設備采用機械臂和晶圓制圖技術,以確保植入過程中準確定位和對準,有助於提高工藝產量和效率。NOVAAXCELIS GSD 200-HC除了具有卓越的離子植入能力外,還提供用戶友好的界面和直觀的軟件控制系統,便於操作和維護。該單元配備了一整套流程監控和數據分析工具,使用戶能夠優化流程參數、診斷潛在問題並做出明智的決策,以提高流程性能和生產率。軟件平臺還支持遠程監控和診斷,允許實時的流程優化和故障排除。總體而言,EATON NOVA GSD 200-HC離子植入器和監控器代表了半導體行業技術創新的巔峰。該工具以其先進的離子源技術、光束監測和控制機器、晶圓處理能力以及用戶友好的界面,為半導體制造商提供了生產具有精確離子註入的高質量集成電路的可靠高效解決方案。NOVAGSD 200-HC為離子植入技術設定了新的標準,使制造商能夠站在半導體創新的最前沿,滿足業界不斷變化的需求。
還沒有評論