二手 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 #9395836 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9395836
晶圓大小: 6"
Implanter, 6"
Gases: B / As / Ar
Energy: 200 keV
Throughput: 210 Pieces / Hour
25-Slots cassettes
(4) Cassettes
ELS Source head
(2) Sun workstations
VME 177 Cell controllers
(2) SDS Gas lines (ASH3 and PH3)
(2) HEWLETT-PACKARD Gas lines (BF3 and Argon)
P-Shower electron
Post acceleration high voltage, 80 keV
Belt type rotary drive
Variable implant angle
2-Axis
Real time patented dose controller
Dose range: 5E11~1E16 Ions / cm²
Arm: Standard, 8"
Wafer holder: Standard, 8"
Beam energy: 1 MeV
Beam current: 1 mA
CE Marked
Power supply: 208 V, 3-Phase, 170 A.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200是一款高性能的離子植入器和顯示器，旨在滿足半導體、醫療和科學產業的需求。它的設計和構建是為了在離子植入和監測過程中遵守最嚴格的全球質量和性能標準。AXCELIS GSD 200能夠在高溫、電壓和電流水平下運行,以實現植入物輪廓和輪廓的卓越性能和一致性。它具有先進的高性能控制設備,能夠精確控制離子束參數,特別是植入物劑量、基體溫度和加速度,以確保異常均勻和可重復的光束特性。該系統還提供了廣泛的可選功能,以改進對植入過程的控制,包括光束轉向、數據記錄、光學門和其他功能。除了卓越的性能外,EATON NOVA GSD 200還具有高能效,它利用低壓操作來提高性能,減少活動部件和組件。這大大降低了功耗,從而實現了節能運行。此外，該單位還通過其先進的監測系統，如輻射和氣體監測、真空感測，以及通過其高靈敏度植入物剖面監測機，提供出色的過程監測能力。這確保了對植入過程的精確控制，提高了產品產量和工藝效率。總體而言,GSD 200是一款高質量、高能效的離子植入器和顯示器,能夠精確控制植入物參數、過程監控和改進過程控制的高級可選功能。它旨在滿足全球最高的質量和性能標準,並提高產品產量和工藝效率。
還沒有評論