二手 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #293813023 待售

EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2
ID: 293813023
晶圓大小: 6"
Ion implanter, 6".
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2是由EatonAXCELIS Technologies為滿足半導體行業需求而設計的離子植入器和顯示器。它是一種多用途、高性能的植入器,專為各種晶圓尺寸和材料而設計。這種設備的工作原理是將離子加速到晶片表面,然後該表面穿透晶片表面並植入離子。AXCELIS GSD 200E-2具有高效的真空系統,旨在防止植入物中毒.它有兩個渦輪泵,兩個水泵,兩個毛坯泵和兩個閘閥以及一組離子泵。離子泵將腔室壓力保持在足夠低的水平,以便進行植入.EATON NOVA GSD 200 E2還包含一個氣體輸送單元,用於控制氣體流向晶圓表面,確保被植入晶圓的物種均勻劑量。EATON NOVA GSD 200E-2的工作壓力範圍為1 × 10-7至1 × 10-5 torr或Pa,晶圓直徑範圍為2英寸至7.5英寸。它還能夠為高達30千電子伏特(keV)離子供電,最大源電流高達100毫安(mA)。EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E-2配有主機計算機和軟件,可控制植入器並監控實時數據。該軟件用於編程植入的劑量、種類等參數。計算機還包含一個幾何處理器以確保每個目標點的精度,以及用於查看劑量分布的映射軟件。它還具有一系列安全功能,可防止未經授權的訪問。GSD 200E2采用先進的安全功能,如離子源安全模塊和離子疏散機,以確保人員的最大安全。安全模塊監視腔室壓力和氣體水平,然後在參數不在可接受範圍內時自動關閉刀具。離子疏散資產迅速疏散植入產品,以維護安全環境。GSD 200E-2是一種先進的模型,旨在滿足業界對精度、效率和準確性的需求。AXCELIS GSD 200E2具有先進的安全特性、卓越的離子輸送設備和實時監控功能,是半導體生產中非常有用的工具。
還沒有評論