二手 EATON NOVA / AXCELIS NV 10-160 #9412140 待售
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ID: 9412140
晶圓大小: 6"
優質的: 1986
Ion implanter, 6"
Energies: 20~160 keV
Minimum beam current: 10 μA
Dose range: 5.0E12 to 5.0E15 Atoms / cm²
Beam current for 80 kev:
Energy (keV) / B11 (mA) / As75 (mA) / P31 (mA)
20 / 0.5 / 0.2 / 0.3
40 / 1 / 1.5 / 1
80 / 2 / 3 / 2.5
140 / 3 / 5 / 5
Throughput:
Batch size: 10 Wafer
Throughput: 100 WPH
Maximum implant time: 120 Sec
Vacuum performance:
Diffusion pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Cryo-Torr 8 Pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Cryo-Torr 8 Pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Maximum wafer temperature control: 100°C
X-Ray emission ≤0.6μ Sievert / hr (60μ rem / hr) at 150 mm
No UPS
Power supply: 208 VAC, 3 Phase, 4 Wire, 45 kVA, 125 Amp, 60 Hz
1986 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-160是一種高能離子植入器和監視器，旨在提供微芯片和其他重要半導體器件制造所必需的精確和精確的離子植入。這臺機器使用了幾束離子束，這些離子束被加速並精確聚焦並掃描到目標基板上，從而改變基板的特性，創造出精確的圖樣和錯綜復雜的結構。AXCELIS NV10-160是一種精確、安全的離子註入工具.它由伊頓公司的中央處理器（CUP）提供動力，包括一系列內置的安全功能以防止事故發生，包括獨立的光束監測系統、高壓開關、鋁束籠和用於安全氣體處理的高壓氣體管線。EATON NOVA NV 10160在160 kV的峰值電壓和1e+13 離子/cm ²的最大植入劑量下運行。本機具有光束電流高達40mA，提供對植入劑量、能量、電壓和電流的精確控制。此外，NV 10160還配備了計算機化分析系統，提供精確準確的植入數據，包括深度剖析、電流密度和劑量。利用這項先進的技術，AXCELIS NV 10-160可用於植入各種各樣的材料，如矽、全新、鋁、鐵以及其他金屬和聚合物。它也能夠植入摻雜劑，包括砷和磷。其大腔室尺寸意味著可以在不影響精度和均勻性的前提下植入大基質。EATON NOVA/AXCELIS NV10-160是制造先進半導體和其他精密元件的理想工具。它的精確度和可靠性使得它成為研究實驗室、工業制造廠或任何其他需要精確離子植入的環境的理想選擇。簡而言之，EATON NOVA/AXCELIS NV 10160對於那些在任何離子植入物應用中都需要最高精度和精確度的人來說是一個非常寶貴的工具。
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