二手 EATON NOVA / AXCELIS NV 10-80 #9227038 待售
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ID: 9227038
Implanter
Specifications:
System characteristic / Design specification (1978) / Performance specification (1982)
Energy / 10-60 keV / 5-80 keV
Beam current P,As
60-80 keV / 10 mA / 12.5 mA
40 keV / 10 mA / 10.0 mA
Sb 40-80 keV / 5 mA / 6.0 mA
B 40-80 keV / 5 mA / 4.0 mA
Throughput P,As
Up to 3E15, 3" / 300 / 235
100 mm / 200 / 350
125 mm / - / 175
1E16, 3" / 150 / 190
100 mm / 100 / 125
125 mm / 70 / 88
B up to 1E15, 3" / 300 / 330
100 mm / 200 / 230
125 mm / 150 / 165
1E16, 3" / 80 / 80
100 mm / 50 / 50
125 mm / 30 / 33
Doping uniformity:
1σ across wafer, 5" / 0.75 / 0.5
Doping reproducibility:
1σ wafer to wafer / 0.5 / 0.5
Ion mass range / 1-150 / 1-130
Ion mass resolution M/∆M fwhh / 65c / 75
Wafer cooling / 140°C @ 600W / 100°C @ 1200W
Facilities requirements:
Power: 30 kVA
Air: 100 PSI, 4 cfm
N2: 5 PSI, 0.14 cfm
H2O: 40 PSI, 5 gpm
Exhaust: 1000 cfm
2000 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-80離子植入器和監控器是一種功能強大且可靠的設備，設計用於將離子植入底物。該裝置能夠植入廣泛範圍的離子，如硼、砷、磷、她的膦、硫等。它配有各種組件，提供對過程的精確控制，便於方便準確的操作。AXCELIS NV 10-80由晶片級、離子源和監控器三個主要部分組成。晶片級用於控制基板在植入過程中的位置，允許離子的精確和可重復的放置。離子源由磁控管陰極和電子槍組成，用於產生和加速離子向底物的方向。由固態探測器組成的監測器測量離子在植入過程中的通量。EATON NOVA NV 1080使用自動植入過程的計算機控制系統運行。它可以控制許多參數，例如離子類型、離子能量、離子打擊速率、劑量水平和晶圓定位。這確保了精確的植入結果，並允許用戶優化植入效率和準確性。它還配備了安全功能，包括互鎖和限電。NV 1080設計用於廣泛的應用，包括半導體制造、MEMS、LED、光電和生物醫學處理。它與各種材料兼容，包括矽、鋁、鋅、移植物和鈦等，植入角度廣泛。EATON NOVA NV 10-80是一款可靠而強大的設備，提供出色的植入效果。其自動化的計算機控制系統確保了精確準確的植入，其功能範圍允許用戶優化植入效率和準確性。適用於多種應用和基材，使其成為一種用途廣泛、高度適合離子植入的裝置。
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