二手 EATON NOVA / AXCELIS NV 10-80 #9412142 待售
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ID: 9412142
晶圓大小: 6"
優質的: 1986
Ion implanter, 6"
(4) Sources
Ion beam energy: 20~80keV
Dose range: 5.0E12 - 5.0E15 atoms / cm²
Minimum beam current: 10µA
Wafer temperature: 100°C
X-Ray emission: ≤0.6μ Sievert / hr (60μ rem / hr)
Charge control technology: Secondary Electron Flood (SEF)
Mechanical throughput:
Batch size: 10 wafers
Throughput: 100 WPH
Maximum implant time: 120 sec
Dose control:
Bare Si Wafers: ≤3.0%
Photoresist wafers: ≤4.0%
Beam current for 80kev:
Energy(keV) / B11(mA) / AS75(mA) / P31(mA)
20 / 0.5 / 0.2 / 0.3
40 / 1 / 1.5 / 1
80 / 2 / 3 / 2.5
Vacuum performance:
Subsystem / Pump / Base pressure (Torr)
Source / Diffusion pump / ≤5.0E-06
Beamline / Resolving housing / Cryo Torr8 / ≤5.0E-06
Resolving housing / Process chamber / Cryo Torr8 / ≤5.0E-06
1986 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-80是一款先進的離子植入器和監控器，用於半導體行業配置集成電路和其他微電子元件。它能夠精確調整材料的表面和內部微觀結構，在工業過程中創造亞微米特征。此設備非常適合那些希望在制造過程中實現高度可靠、低成本和可靠的材料性能改進的用戶。AXCELIS NV 10-80使用高壓等離子體腔和可編程多線陣列運行。等離子體壓力和流量使用內置陣列精確控制，所需離子種類的濃度由現場高斯陷阱設備監測。光束的精確控制輸出能量分布在目標表面上，從而可以廣泛控制植入過程。EATON NOVA NV 1080的高級監控系統使用戶即使在處理錯綜復雜的組件時也能保持一致的植入質量。該單元的實時診斷功能提供了梁參數和相關缺陷的詳細表征。這使得幾乎可以立即發現故障不符合要求的檢測和過程校正，並有針對性地植入特定材料。陸上重叠監測可用於同時監測同一平面中兩個光束站點的重叠，這有助於操作員快速診斷和動態修改重叠。這臺機器的設計考慮到了靈活性和人體工程學，具有一個標準的操作控制臺，三個獨立的手術臺和一個模塊化的定位機。它配備了基於PC的控制工具,能夠自動執行各種過程監視和控制任務。其他特性包括精密鋰簇離子源、可編程離子型、離子束電流和劑量範圍以及易於使用的數據輸入和分析資產。為了最大安全方便，EATON NOVA NV 10-80獲得CE和UL安全標準認證。其構造和操作極其可靠安全，是精密加工的理想選擇。確保在所有的應用程序中最大的工藝性能，機器提供可靠的結果，從它的高級控制模型，並產生一致的高質量植入。
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