二手 EATON NOVA / AXCELIS NV 6200 #9266104 待售

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ID: 9266104
晶圓大小: 6"
Implanter, 6" Application: Boron (B11+) ion implant Boron (BF2) ion implant Phosphorus (P+31) ion implant Energy: 5~200 KeV Dose: ~5E14 ions / cm² Beam current boron: <700 mA Phosphorus: <1,700 mA.
EATON NOVA/AXCELIS NV 6200是一種離子植入器和監測器,由一家專門設計和生產各種離子植入和摻雜設備的半導體元件公司Eaton Corporation開發制造。AXCELIS NV 6200是一種高度精密的裝置,利用高能的離子束將摻雜原子,如移植入到構成晶體管、集成電路和其他類型微電子器件基礎的材料層中。它提供連續輸出的摻雜離子,以精確地在材料中創建所需的摻雜剖面。IonImplanter裝置有一個控制系統,能夠快速準確地監測和調整輸出。它可以手動或自動模式運行,操作員設置能量、束電流、槍電壓、腔室壓力等所有參數。EATON NOVA NV 6200效率高,可以長時間不間斷運行,長達24小時。機器測量數十種不同材料的植入率,包括矽、III-V化合物和多層基板。NV 6200配備了一系列安全系統,因此操作員無需擔心可能的爆炸性或有毒物質。設備會遵守所有標準安全協議。EATON NOVA/AXCELIS NV 6200可以支持負載鎖定、可變軸掃描儀、對稱植入物和光束整形等多種選項,允許操作員自定義植入離子的角度、位置和圖案。監控系統可以測量所有參數並顯示錯誤,同時支持各個組件之間的可追蹤性,以確保安全滿足所有參數。AXCELIS NV 6200是用於制造微電子器件的預光刻工藝中必不可少的工具。其精確的控制和可靠性,加上連續運行的能力,使得它成為生產線不可或缺的設備,需要可靠和可重現的結果。全自動監控系統可確保結果在整個過程中準確一致,從而實現更高的產量和更高的制造效率。
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