二手 EATON NOVA / AXCELIS NV GSD A 160 #293610571 待售
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ID: 293610571
晶圓大小: 6"
Implanter, 6"
Bernas source type
SEIKO SEIKI STP-2000C Turbo pump
(2) EBARA 40X20 Dry pumps
Compressor: CTI 8200 / CTI 8510
NESLAB HX-150 Disk chiller
E-Shower gun
Rotary motor: Belt drive
Flat finder
Without coating disk
Secondly sun
Beamline
Post-Accel
Bias aperature
Cyro pump:
CTI Torr-08
CTI Torr-10
Gas type:
Gas 1: AR/SDS (HP, SDS, External)
Gas 2: ASH3/SDS (HP, SDS, External)
Gas 3: PH3/SDS (HP, SDS, External)
Gas 4: BF3/SDS (HP, SDS, External).
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD A 160是一款最先進的離子植入器和顯示器,旨在滿足半導體制造工藝的最先進的要求。它是業界最全面的植入器設備,與其他系統相比提供了眾多優勢。該系統提供高速的16位模擬離子電流測量,可產生高分辨率的圖像,並允許精確的離子植入和優化的植入周長(OIP)。AXCELIS NV-GSD-A-160配備了一個可調高壓平臺和一個1.87米長的矩形基板支架,帶有2個可伸縮的光束軸,允許精確的雙軸植入。EATON NOVA NV GSD-A-160還提供了一整套診斷工具和測量儀器來評估工藝性能。NV GSD A 160具有高分辨率成像單元、高壓平臺和雙軸植入機三大特點。該成像工具由100微米分辨率CCD芯片和先進的轉角轉向光學器件組成,可提供最詳細的離子植入預覽。它還提供了一種OIP功能,可用於精確控制劑量和能量分布。高壓平臺能夠操作高達50千伏,在使用較大的離子束時提供了良好的控制程度。兩軸註入資產允許一次註入四個離子軸,每組四個軸包括x、y、z和theta軸。它還帶有全運動控制和過程監控,提供對植入過程的全面控制。最後,NV-GSD-A-160還提供了廣泛的診斷和監視選項。它配備了一個監護模型來監控硬件和軟件性能的各個方面,以及一個離子植入物診斷(IID)工具,可以用來確定離子束的配置和能級。該設備還提供了一套全面的測量儀器和工具來分析植入過程。總體而言,AXCELIS NV GSD A 160是進行先進半導體制造工藝的理想工具。擁有高分辨率成像系統、可調高壓平臺、雙軸植入單元和綜合診斷工具集,提供了復雜植入所需的所有功能。通過提供全面的控制方法,EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD-A-160可以幫助您的制造業務獲得顯著優勢。
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