二手 EATON NOVA / AXCELIS NV GSD-HE #9195914 待售
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已售出
ID: 9195914
晶圓大小: 8"
Ion implanter, 8"
SUMITOMO EATON NOVA End station
Source / Injector region: ELS
Electrode assembly: SEN
Gas channels: Ar, BF3, PH3, AsH3
High pressure gas
Injector PD / DI
S.Control DI
Filament PS
Cathode PS(ELS)
Arc PS
Extraction HVPS
Suppression PS
Vac gauge controller
Analyzer magnet PS
Source magnet PS
Injector electronic DI
Gauss controller
S.Turbo/Controller
S.Gas control DI
Beam guide assy
Source gate valve
High voltage stack
Hall probe
Injector beamline DI
Injector Faraday
RP1 Pump
Isolation tank
Vaporizer: No
Analyzer turbo/Cont: No
Linac region:
AC PD Box
RF PS
Resonator can
Pneumatic control box (1&2)
Turbo pump: STP-H600C
Control: Yes
Cooling tube
RF Generator
FEM Control DI
Quad PS
Vacuum controller
Roughing pump (RP4)
Gauss meter / Probe: 1157450 / AXCELIS
Magnet DI
Wire harness
Quad assembly
Resolving housing region:
Electron shower assy
Gyro control DI
In-Air control DI
Loadlock control DI
Electron shower PS
Robot control DI
Cryo pump (P2,3,9)
Wire harness
Cell controller
Flag Faraday
Cryo compressor
Roughing pump (RP2)
Data link hub
Cryo on-board DI: No
End station region:
Rotary drive motor
(4) Cassette tables
Disk W/spare
Rotary drive DI
Y-scan control DI
HCIG Controller
Cassette door
Disk TC control DI
In-Air robot W/chuck
Dose control DI
Flat aligner
Dummy buffer
Vacuum cassette
Resister box
Cassette stand
Load buffer
In-Vac arm
Laminar flow hood
Clamp
Wafer holder
Sun workstation
Disk removal tool: No
Ground region:
Main PD DI
Triple loop chiller
UWX30
Oscilloscope
Smoke detector
Power cable: No
Work table: No
Sun workstation: No
(2) Laminar flow hoods
Outer door
Panels:
Loop panel
Outer enclosure panel
Lead panel
Endstation glass panel
Floor
Manual / Drawing:
Operation manual
Maintenance manual
Endstation align manual
Calibration manual
Original vendor manual
System drawing.
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD-HE是一種高性能的離子植入器和監視器。植入器利用植入技術的最新技術，為用戶在植入離子時提供卓越的性能和控制。GSD-HE還配備了高精度的監控設備，以確保準確性和安全性。AXCELIS NV GSD HE的核心是其實施系統。這個單元使用高效的離子源，能夠將離子加速到高達500 keV的能量。這種能量足以將離子植入各種材料的表面。離子植入器還具有幾種不同的鏡片，以確保精確和均勻的植入。此外，GSD-HE配備了可調快門，允許用戶精確控制釋放的離子量。GSD-HE還設有若幹監測系統。這些系統旨在檢測機器性能的任何偏差,並提供離子電流、光束不穩定性、汙染和其他變量等植入參數的準確讀數。監視器還將這些值記錄在實時日誌中,可以查看或下載這些值以供將來參考。EATON NOVA NV-GSD HE也能夠執行各種其他操作。例如，植入器可以被編程為拒絕具有某些特性的粒子，從而可以富集所需的目標粒子。它還具有改變能量和植入率的能力，允許用戶定制植入器以滿足其特定的應用要求。而且，GSD-HE可以用於不同類型的等離子體加工，如PECVD、PACVD和金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）。GSD-HE還配備了多種安全功能。它通過檢測任何異常操作的傳感器陣列監視植入器的性能。該工具還具有一個緊急停止按鈕，可用於在緊急情況下快速關閉資產。總之，EATON NOVA NV GSD/HE是一種先進、高度可靠、用途廣泛的離子植入器和監測器。GSD-HE為用戶提供卓越的性能、精確度和安全功能,使其成為各種應用程序的理想選擇。
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