二手 NOVA T4500 #9233674 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
NOVA T4500是由Implant Sciences Inc開發的離子植入器和監控器。它是一種工業級的植入器和顯示器，設計用於制造半導體器件。T4500能夠產生能量在10到5500 keV之間、劑量率高達4 x 106 A/cm2的高能離子。設備總離子束電流範圍在1至4 mA之間。NOVA T4500是一種連續流動的離子植入器，這意味著離子在一端被連續送入系統，然後從另一端提取。這樣就不需要連續停止和啟動設備,從而提高了吞吐量並降低了維護成本。本機具有兩軸光束電流控制和兩個獨立的離子能量控制區域。這允許精確控制離子束輪廓，使工具能夠產生高度均勻的離子植入。T4500配備了先進的離子光學和電子硬件，旨在在整個腔室的寬度上產生極高水平的離子束電流和能量均勻性。該資產還配備了高度先進的離子光學輪廓軟件，該軟件允許調整離子束輪廓，以確保精確控制光束的形狀和大小。NOVA T4500還配備了一個全面的監控模型，可以實時跟蹤和分析離子植入參數。監測設備包括束電流和能量、總劑量、劑量均勻性、泄漏電流和溫度數據等特征。這允許對植入過程進行精確一致的控制，並確保所有植入都是一致的，質量最高。除了植入和監控能力外，T4500還配備了先進的過程控制和數據分析工具。這些工具允許實時分析植入過程，並提供植入過程的詳細報告，可用於將過程參數的變化與植入物的變化相結合和關聯。NOVA T4500是一種先進且高度可靠的離子植入器和顯示器,專為在要求最苛刻的工業環境中使用而設計。它結合了先進的離子光學和電子硬件、監控能力以及過程控制和數據分析工具，使其成為工業離子植入過程的理想解決方案。
還沒有評論