二手 VARIAN 160XP #9182285 待售
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已售出
ID: 9182285
晶圓大小: 4"
High current implanter, 4"
Can be converted to 6"
Maximum beam current: 10 Ma
Implant angle: 7°
RLS Wafer exchange system
(4) Gases:
Phosphine
Arsine
Boron & argon.
VARIAN 160XP是一種先進的離子植入器和監測器,專門設計用於將一系列不同的離子物種沈積在固體材料中。這使得該設備非常適合半導體加工、微電子研究和光刻等應用。VARIAN 160 XP具有多才多藝和先進的特點,是需要精確和精確離子註入的應用的絕佳選擇。使用精確可靠的光束形成光學器件,160XP可以沈積能量範圍大、能量擴散量最小的離子物質。這意味著用戶可以輕松調整設備的光束聚焦機制,以確保物種被植入所需的確切能量範圍。此外,160 XP是一種高效的植入器,可以在脈沖或連續模式下運行。通過允許用戶以脈沖模式操作設備,植入器能夠減少總光束時間,從而有效降低劑量率,降低總光束能耗。這有助於節省時間和精力。VARIAN 160 XP的光束監測系統還確保其在劑量和光束穩定性方面的準確性。它由六軸光束角監視器和寬範圍光束輪廓監視器組成。前者測量橫向運動和標稱梁位置的角度變化,後者檢查梁輪廓特征。植入器還包括先進的安全功能,以防止可能發生的任何與梁有關的事故。這些特性包括光束互鎖、光束強度監測器和劑量率監測器。這些監視器可防止用戶意外接觸過壓的光束或磁場,從而確保其安全。總體而言,VARIAN 160 XP是一種先進的離子植入器和監測器,可用於一系列離子物種的精確植入。以其準確高效的運行,是微電子研究和半導體加工的理想工具。此外,它的安全特性使得它成為用戶可靠可靠的選擇。
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