二手 VARIAN 160XP #9198478 待售
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ID: 9198478
晶圓大小: 6"
優質的: 1995
Implanter, 6"
Maximum beam energy: 160kV
Energy range: 10kV–160kV
B+: 5mA
BF2+: 7mA
As+: 10mA
P+: 10mA
Sb+: 5mA
(2) Chambers implant process
Source
Beam-line
End station 1 & 2
Dual faraday system: Flood gun
EFG Charge control system
Modules:
Mechanical module
HEPA Filter flow hood
Remote console
Gas box
End station module
Electrical console
High voltage power supply
Dopant source
Argon (High pressure)
Ion source type:
Solid source: Antimony
(3) Gas sources:
Boron HP
Arsine HP
Phosphine HP
Pumps:
VARIAN Diffusion pump
EDWARDS IQDP80
EDWARDS IQDP40
(4) CT8 Cryopumps
CDA Pressure 100 PSI
N2 Pressure 20 PSI
(4) Toxic needle valve controlled gas systems
Power supply: 208 VAC, 60 kVA
1995 vintage.
VARIAN 160XP是一個最先進的離子植入和監測系統。它非常適合復雜的半導體應用，有助於優化各種半導體材料的質量。機器的工作原理是發送正離子流，通常通過系統內的固定加速器進行控制。然後將這些離子以低能量註入基質中，通常是矽或的。結果是基材內摻雜量受控。利用VARIAN 160 XP可以實現高水平的摻雜控制，因為每個植入物都可以調節加速電壓和束電流。這在植入過程中提供了更大的控制和精度。為了最大限度地提高離子植入效率，160XP被設計成包括集成的過程診斷和監測。它具有專有的光束監視器,可提供有關過程準確性和性能的連續反饋。這使得用戶可以在他們的實驗仍在進行的時候，輕松調整和重新調整離子植入束參數，而不必重復。除了這些功能外，160 XP還有許多有用的工具和軟件包來優化流程。其中包括劑量率優化以確保最佳植入率，光束參數的自動化編程以最大化吞吐量，以及用於數據收集的高級軟件工具。該系統還包括自動聚焦功能，使用戶能夠精確測量和調整離子束的焦點。總體而言，VARIAN 160XP是一種最先進的離子植入器和監視器。它具有最高的效率和準確性,並具有高級軟件和控制功能。對於任何使用半導體材料且需要受控摻雜的實驗室來說，這是一個理想和可靠的選擇。
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