二手 VARIAN 300XP #9232841 待售
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已售出
ID: 9232841
Implanter, 3"-6"
Beam energy: 10-200keV (Extendable to 400keV with doubly charged ions)
Throughput:
250 Wafer per hour
With 10-second implant
Wafer breakage <1: 20000
Wafer cooling:
ΔT <100°C at 2.0 w/cm² (Air)
ΔT <100°C at 3.0 w/cm² (Helium)
Particulate count:
<0.15 Particles / cm² for particle size >0.5µ
<0.05 Particles / cm² for particle size >1.0µ
Wafer handling:
Cassette to cassette serial processing
Dual end stations
Full 100 wafer load
Vertical wafer handling
Cassette and slot integrity
Azimuthal wafer orientation
Implant angle 0° or 7° fixed.
VARIAN 300XP是一種高性能的離子植入器和顯示器,旨在在廣泛的範圍、能量和電荷狀態下輸送和監測劑量的高能離子。這個系統包括一個100厘米長,直徑2厘米的用於生產植入物種類的離子槍,一條控制離子束能量的階梯狀光束線,以及一個用於劑量和光束狀態測量的集成監測室和檢測器。該槍具有可選的高功率射頻(RF)加熱選項以增加槍的能量,以及多軸準直儀以產生廣泛的可用電流分布。階梯式光束線使用永磁光學帶電調來控制植入光束從滿能量到幾百伏,並有一組磁性和靜電孔徑來產生從宏觀到亞毫米的廣泛光束大小。集成監視器室在通過時使用靜電光學器件聚焦植入物束,並結合二次電子發射、法拉第杯和氣體電離室來監測束電流、劑量率和總劑量。該腔室是模塊化的,可用於各種不同尺寸的基材和晶圓上。該腔室設計為提供高電流密度而不犧牲分辨率,單片尺寸可達200毫米。監視器室包括一個先進的軟件包,以幫助控制植入過程,與手動調整束參數以匹配所需的結果選項,以及遠程控制系統和電子束寫入。該系統還包括一套全面的安全功能,帶有硬件和軟件聯鎖,以確保隨時安全運行。VARIAN 300 XP是生產高質量離子植入物的可靠有力的工具,其集成的監控室和軟件包使其成為高精度劑量控制和過程監控的理想選擇。模塊化設計既適合大型植入物,又適合高精度的研究應用,而其安全特性和綜合軟件包則增加了安心和操作方便。
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