二手 VARIAN 300XP #9390703 待售
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單擊可縮放
ID: 9390703
晶圓大小: 6"
優質的: 2004
Implanter, 6"
Dual end stations
Implant angle: 0°-7°
Source type: Freeman ion source
BROOKHAVEN X and Y Scan master amplifiers
Beam energy probe: 0-200 kV
Remote beam monitor on control console
Extraction: 0-35 kV
Standard 300XP grounded platen
Corner cup integration
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 Source rough pump, 3 Phase
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 B/L Rough pump, Single phase
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 E/S Rough pump ,Single phase
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 Load lock pump, Single phase
VARIAN VHS 4 Diffusion source Hi-Vac pump
VARIAN B/L Hi-Vac pump with CTI-8 Cryo pump
VARIAN E/S Hi-Vac pump with CTI-8 Cryo pump
CTI Compressors
Acceleration / Deceleration power supply kit: -2 kV
AMU: 0-124
Process control terminal: 486 with remote control console
XP scan controller dosimetry system
SDS control system
(4) Gas systems:
(3) MFCs
HP for boron
Fiber optic control interface:
High voltage terminal
Ground level controls
2004 vintage.
VARIAN 300XP是一種設計用於半導體行業的高性能離子植入器和顯示器。這種裝置能夠以精確的速度將離子植入各種各樣的目標中。VARIAN 300 XP是一款緊湊多用途的機器，可以借助專有的源代碼配置和操作軟件提供各種詳細的流程應用。該裝置采用三磁體設計和六軸運動設備進行精確的離子註入。其技術允許控制低至0.1毫米的加速光束寬度，並允許小至0.03毫米的精確光束點大小。此外，光束電流範圍從0.01-50}A延伸。它具有高靈敏度連續光束電流監視器,動態範圍為1-500 pm。這種裝置設計成在廣泛的工藝範圍內工作，溫度範圍變化為20-400°C。300XP具有雙模離子源,可用於選擇所需的光束能量和加速度,並控制光束角度。離子源可以調整為抗氧化模式或最大溶解模式。該裝置具有自動加載系統，能夠準確檢測被植入基板的性能，並對操作和光束準直進行適當調整。300 XP也可以測量多種劑量和能量。該裝置有一個先進的控制單元，能夠精確控制光束寬度和光束電流。其數據采集機可以借助升級的脈沖源同時測量劑量和能量。該工具還可以生成各種實時圖表和報告，用於分析流程產量和輸出。VARIAN 300XP是一種高效可靠的資產，可以為半導體行業提供多種植入解決方案。它高效、精確的設計使得它成為各種需要精確度和精確度的應用的完美選擇。其多功能性、工藝範圍和靈活性使其適合半導體行業的各種工藝。
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